[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210448685.7
• 申請(qǐng)日: 2012-11-09
• 公開（公告）號(hào): CN102929056B
• 公開（公告）日: 2016-11-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郤玉生;胡海琛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1362
• 分類號(hào): G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/77
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種陣列基板，包括：透明基板，設(shè)置在所述透明基板上的柵金屬層、源漏金屬層；其中，所述柵金屬層包括：柵線和柵極，所述源漏金屬層包括：數(shù)據(jù)線、源極和漏極；其特征在于，還包括：公共電極線金屬層和絕緣層；所述絕緣層位于所述公共電極線金屬層和所述柵金屬層之間，或者位于所述公共電極線金屬層和所述源漏金屬層之間；

所述公共電極線金屬層包括：多條交叉設(shè)置的公共電極線。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述公共電極線金屬層包括：多條相互平行的第一公共電極線，以及多條相互平行的第二公共電極線；其中，所述第一公共電極線與所述第二公共電極線相交叉。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，每相鄰的兩條第一公共電極線間的距離相等，且每相鄰的兩條第二公共電極線間的距離相等。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述第一公共電極線與所述柵線平行，所述第二公共電極線與所述數(shù)據(jù)線平行。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括：與所述公共電極線金屬層相鄰設(shè)置的透明導(dǎo)電層，所述透明導(dǎo)電層包括：公共電極的圖案；

所述公共電極與所述公共電極線直接接觸。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述公共電極和所述公共電極線存在重疊區(qū)域。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述透明導(dǎo)電層還包括：像素電極的圖案，所述像素電極和所述漏極通過過孔電連接。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括：權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的陣列基板。

9.一種陣列基板的制造方法，包括：在透明基板上設(shè)置柵金屬層的步驟，以及在透明基板上設(shè)置源漏金屬層的步驟，其特征在于，還包括：在透明基板上設(shè)置公共電極線金屬層的步驟；其中，所述公共電極線金屬層包括：多條交叉設(shè)置的公共電極線；

所述在透明基板上設(shè)置公共電極線金屬層的步驟與所述在透明基板上設(shè)置柵金屬層的步驟之間，或者，所述在透明基板上設(shè)置公共電極線金屬層的步驟與所述在透明基板上設(shè)置源漏金屬層的步驟之間，所述制造方法還包括：在透明基板上設(shè)置絕緣層的步驟。

10.根據(jù)9所述的制造方法，其特征在于，所述在透明基板上設(shè)置公共電極線金屬層的步驟之前或之后，還包括：

在透明基板上設(shè)置與所述公共電極線金屬層相鄰設(shè)置的透明導(dǎo)電層的步驟，所述透明導(dǎo)電層包括：公共電極的圖案；所述公共電極與所述公共電極線直接接觸。

11.根據(jù)10所述的制造方法，其特征在于，所述透明導(dǎo)電層還包括：像素電極的圖案。