[發明專利]光學元件陣列、其形成方法、顯示裝置和電子設備無效
| 申請號: | 201210446981.3 | 申請日: | 2012-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN103105673A | 公開(公告)日: | 2013-05-15 |
| 發明(設計)人: | 高井雄一;渡邊康博 | 申請(專利權)人: | 索尼公司 |
| 主分類號: | G02B26/02 | 分類號: | G02B26/02;G02B3/12;G09G3/34 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 元件 陣列 形成 方法 顯示裝置 電子設備 | ||
技術領域
本發明涉及利用電潤濕(electrowetting)現象的光學元件陣列,顯示裝置和包括光學元件陣列的電子設備,以及形成光學元件陣列的方法。
背景技術
在相關技術中,已開發出通過電潤濕現象(電毛細現象)展示光學作用的液體光學元件。電潤濕現象是指當在電極和導電液體之間施加電壓時,電極表面和導電液體(極性液體)之間的界面能(interface?energy)發生改變從而引起液體表面形狀發生改變的現象。
申請人已經提出了一種立體影像顯示裝置,其中,由多個液體光學元件制成的光學元件陣列被用作柱狀透鏡(例如,參考日本未實審專利申請公開No.2009-247480)。
發明內容
近來,要求光學元件陣列中的驅動控制要更精確。因此,有必要提高各個部分在尺寸方面的精度,例如相對的電極之間的間隙。另一方面,也存在要應對整體構造增大的要求。
希望能提供一種光學元件陣列,其具有出色工藝性結構且即便在整體構造增大的情況下也能在尺寸方面保持足夠的精度,以及包括該光學元件陣列的顯示裝置和電子設備。還希望提供能高效且以高精度形成光學元件陣列的方法。
根據本發明的一種實施例,提供了光學元件陣列,其包括以下各個組件(A1)至(A6):
(A1)彼此相對的第一襯底和第二襯底;
(A2)多個第一壁,其直立在第一襯底的、與第二襯底相對的內表面上;
(A3)第一電極和第二電極,其分別位于相鄰的第一壁的相對的壁面上;
(A4)第三電極,其位于第二襯底的、與第一襯底相對的內表面上;
(A5)第二壁,其部分地覆蓋第一襯底和第一壁的內表面,以部分地或完全地圍繞介于第一襯底和第二襯底之間的空間的至少一部分;和
(A6)極性液體和非極性液體,其密封在由第一襯底、第二襯底和第二壁所圍繞的空間內,且具有不同的折射率。
根據本發明的另一個實施例,提供了顯示裝置,其包括顯示部和光學元件陣列,其中,光學元件陣列具有以下各個組件(B1)至(B6):
(B1)彼此相對的第一襯底和第二襯底;
(B2)多個第一壁,其直立在第一襯底的、與第二襯底相對的內表面上;
(B3)第一電極和第二電極,其分別位于相鄰的第一壁的相對的壁面上;
(B4),第三電極,其位于第二襯底的、與第一襯底相對的內表面上;
(B5)第二壁,其部分地覆蓋第一襯底和第一壁的內表面,并沿顯示部中的有效區域的外邊緣設置;和
(B6)極性液體和非極性液體,其密封在由第一襯底、第二襯底和第二壁所圍繞的空間內,且具有不同的折射率。
根據本發明的再一個實施例,提供了電子設備,其包括具有顯示部和光學元件陣列的顯示裝置,其中,光學元件陣列具有以下各個組件(C1)至(C6):
(C1)彼此相對的第一襯底和第二襯底;
(C2)多個第一壁,其直立在第一襯底的、與第二襯底相對的內表面上;
(C3)第一電極和第二電極,其分別位于相鄰的第一壁的相對的壁面上;
(C4),第三電極,其位于第二襯底的、與第一襯底相對的內表面上;
(C5)第二壁,其選擇性地覆蓋第一襯底和第一壁的內表面,并沿顯示部中的有效區域的外邊緣設置;和
(C6)極性液體和非極性液體,其密封在由第一襯底、第二襯底和第二壁所圍繞的空間內,且具有不同的折射率。
根據本發明的再另一個實施例,提供了形成光學元件陣列的方法,其包括以下各個步驟(D1)至(D5):
(D1)形成多個直立在第一襯底表面上的第一壁;
(D2)在第一壁的壁面上形成彼此相對的第一電極和第二電極;
(D3)形成第二壁以選擇性地覆蓋第一襯底和第一壁的表面,并部分地或完全地圍繞第一襯底上的空間;
(D4)將提供第三電極的第二襯底布置在一個表面上,使得第三電極與第一襯底相對;和
(D5)將具有不同折射率的極性液體和非極性液體密封在由第一襯底、第二襯底和第二壁所圍繞的空間內。
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