[發(fā)明專利]檢測(cè)測(cè)量目標(biāo)的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210445858.X
• 申請(qǐng)日: 2010-07-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102980533A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-03-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭仲基;李有振;李承埈
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社高永科技
• 主分類號(hào): G01B11/25
• 分類號(hào): G01B11/25;G01B11/00
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星

1.一種用來(lái)檢測(cè)安裝在基板上的器件的檢測(cè)方法，所述檢測(cè)方法包括以下步驟：

生成器件的形狀模板；

通過(guò)投影部將光柵圖案光投射到基板上來(lái)獲取每個(gè)像素的高度信息；

生成與每個(gè)像素的高度信息對(duì)應(yīng)的對(duì)比圖；

將對(duì)比圖與形狀模板進(jìn)行比較。

2.如權(quán)利要求1所述的檢測(cè)方法，所述檢測(cè)方法還包括：通過(guò)將對(duì)比圖與形狀模板進(jìn)行比較來(lái)獲取與形狀模板對(duì)應(yīng)的器件的尺寸、位置和旋轉(zhuǎn)中的至少一種信息。

3.如權(quán)利要求2所述的檢測(cè)方法，其中，投影部包括光源、將光源產(chǎn)生的光轉(zhuǎn)換為光柵圖案光的光柵單元和使光柵單元移動(dòng)的光柵移動(dòng)單元，其中，投影部在移動(dòng)光柵單元時(shí)將光柵圖案光投射到基板上N次。

4.如權(quán)利要求3所述的檢測(cè)方法，所述檢測(cè)方法還包括：當(dāng)光柵圖案光被基板反射時(shí)，通過(guò)照相機(jī)捕獲的N個(gè)圖像來(lái)獲取基板的每個(gè)像素的可見(jiàn)度信息，

其中，通過(guò)高度信息與可見(jiàn)度信息進(jìn)行相乘計(jì)算的值來(lái)限定對(duì)比圖。

5.如權(quán)利要求4所述的檢測(cè)方法，其中，可見(jiàn)度信息是各個(gè)像素處的圖像的強(qiáng)度中的振幅與平均值之比。

6.如權(quán)利要求3所述的檢測(cè)方法，其中，將對(duì)比圖與形狀模板在所述模板的特定公差值內(nèi)相互進(jìn)行比較。

7.如權(quán)利要求3所述的檢測(cè)方法，其中，將對(duì)比圖與形狀模板進(jìn)行比較的步驟包括：

將形狀模板中的根據(jù)像素的坐標(biāo)被分配為0或1的值與對(duì)比圖和形狀模板重疊的區(qū)域的對(duì)比值進(jìn)行相乘以求得結(jié)果值，并對(duì)所述結(jié)果值進(jìn)行求和；

通過(guò)移動(dòng)形狀模板將結(jié)果值之和變成最大值的位置確定為所述器件的位置；

當(dāng)最大值不小于標(biāo)準(zhǔn)值時(shí)，確定所述器件是與形狀模板對(duì)應(yīng)的器件。

8.一種用來(lái)檢測(cè)安裝在基板上的器件的檢測(cè)方法，所述檢測(cè)方法包括以下步驟：

生成器件的形狀模板；

通過(guò)將光沿多個(gè)方向投射到基板上來(lái)獲取每個(gè)像素的陰影信息；

通過(guò)將沿多個(gè)方向得到的多個(gè)陰影信息合并來(lái)生成陰影圖；

將陰影圖與形狀模板進(jìn)行比較，以獲取所述器件的尺寸、位置和旋轉(zhuǎn)中的至少一種信息。

9.如權(quán)利要求8所述的檢測(cè)方法，其中，通過(guò)將光沿多個(gè)方向投射到基板上來(lái)獲取每個(gè)像素的陰影信息的步驟包括：

在使光柵圖案光的相位移動(dòng)時(shí)，將光柵圖案光沿多個(gè)方向投射到基板上N次；

獲取被基板反射的N個(gè)圖像。

10.如權(quán)利要求9所述的檢測(cè)方法，其中，通過(guò)將光沿多個(gè)方向投射到基板上來(lái)獲取每個(gè)像素的陰影信息的步驟還包括：

對(duì)所述N個(gè)圖像求平均值，或者對(duì)所述N個(gè)圖像中的圖像求和使得圖像的相位差之和變?yōu)?60度，以獲得去除了光柵圖案的圖像。

11.一種對(duì)測(cè)量目標(biāo)的檢測(cè)方法，所述檢測(cè)方法包括以下步驟：

通過(guò)將光沿多個(gè)方向投射到形成有測(cè)量目標(biāo)的基板上來(lái)獲取每個(gè)方向的陰影區(qū)域；

通過(guò)合并所獲取的每個(gè)方向的陰影區(qū)域來(lái)生成陰影圖；

從所述陰影圖獲取測(cè)量目標(biāo)的尺寸、位置和旋轉(zhuǎn)中的至少一種信息。

12.如權(quán)利要求11所述的檢測(cè)方法，所述檢測(cè)方法還包括：在獲取每個(gè)方向的陰影區(qū)域之后，對(duì)所獲取的每個(gè)方向的陰影區(qū)域進(jìn)行補(bǔ)償，

其中，通過(guò)以下步驟來(lái)執(zhí)行對(duì)所獲取的每個(gè)方向的陰影區(qū)域進(jìn)行補(bǔ)償?shù)牟襟E：將所獲取的每個(gè)方向的陰影區(qū)域的每個(gè)像素與振幅相乘，或者，當(dāng)像素的振幅不大于預(yù)先設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)值時(shí)，將陰影區(qū)域的像素設(shè)定成陰影。

13.如權(quán)利要求11所述的檢測(cè)方法，所述檢測(cè)方法還包括：在生成陰影圖之后，對(duì)陰影圖進(jìn)行補(bǔ)償，

其中，通過(guò)以下步驟來(lái)執(zhí)行對(duì)陰影圖進(jìn)行補(bǔ)償?shù)牟襟E：將陰影圖的每個(gè)像素與振幅相乘，或者，當(dāng)像素的振幅不大于預(yù)先設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)值時(shí)，將陰影圖的像素設(shè)定成陰影。

14.如權(quán)利要求11所述的檢測(cè)方法，所述檢測(cè)方法還包括：

利用測(cè)量設(shè)備對(duì)所述測(cè)量目標(biāo)進(jìn)行測(cè)量或者測(cè)量包括測(cè)量目標(biāo)的信息的CAD數(shù)據(jù)來(lái)生成模板；

通過(guò)將陰影圖與所述模板進(jìn)行比較來(lái)設(shè)定測(cè)量目標(biāo)。