[發(fā)明專利]液滴噴出頭的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210439841.3 | 申請日： | 2012-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN103085481A | 公開（公告）日： | 2013-05-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 二瓶靖和 | 申請（專利權(quán)）人： | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號： | B41J2/16 | 分類號： | B41J2/16 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 王靈菇;白麗 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 噴出 制造 方法 | ||
1.一種液滴噴出頭的制造方法，其包含以下工序：
在具有噴嘴孔的噴嘴形成基板的表面和在所述噴嘴孔的側(cè)壁形成疏水膜的疏水膜形成工序，
在形成于所述噴嘴形成基板的表面的所述疏水膜表面上粘貼保護膜的保護膜粘貼工序，
利用等離子體處理將形成于所述噴嘴孔側(cè)壁的所述疏水膜除去的等離子體照射工序，和
將所述保護膜剝離的保護膜剝離工序；
其中，所述保護膜的粘合成分和基材中不含聚硅氧烷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，在所述疏水膜形成工序之前，在所述噴嘴形成基板上粘接有噴出的液體流動的流路和壓力室的流路形成基板，且在所述流路形成基板上形成有驅(qū)動用的壓電元件和布線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，所述保護膜具有除氣性。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，所述保護膜在光學(xué)上是透明的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，所述保護膜在至少一個表面上具有含聚硅氧烷的剝離膜，且
在所述保護膜粘貼工序之前具有將所述剝離膜從所述保護膜剝離的剝離工序。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，所述保護膜粘貼工序在對所述噴嘴孔的內(nèi)部進行了減壓的條件下進行。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，所述保護膜粘貼工序在加熱環(huán)境下進行。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，在所述疏水膜形成工序中，所述疏水膜由氟系硅烷偶聯(lián)材料形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，在所述疏水膜形成工序中，所述疏水膜通過對所述氟系硅烷偶聯(lián)材料進行蒸鍍來形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，在所述等離子體照射工序中，所述等離子體處理采用真空減壓等離子體處理來進行。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液滴噴出頭的制造方法，其中，在所述等離子體照射工序中，所述等離子體處理采用利用氣流的大氣壓等離子體處理來進行。
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