[發(fā)明專利]用于制作取向膜的模具及取向膜的制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210436683.6 | 申請日： | 2012-11-05 |
| 公開（公告）號： | CN102929041A | 公開（公告）日： | 2013-02-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 董霆;趙合彬;陳玉瓊 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1337 | 分類號： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京中博世達專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 制作 取向 模具 制作方法 | ||
1.一種用于制作取向膜的模具，其特征在于，包括：
主體部分，所述主體部分為平板狀結(jié)構(gòu)；
數(shù)個設(shè)置于所述主體部分的同一平面上的工作部分，所述工作部分為突出于所述主體部分的條狀結(jié)構(gòu)，各所述工作部分相平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模具，其特征在于，
所述工作部分包括用于與取向膜接觸的接觸部以及連接所述接觸部的連接部，所述連接部的截面的形狀為矩形，所述接觸部的截面的形狀為半橢圓型。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模具，其特征在于，
所述工作部分之間的間距相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模具，其特征在于，
所述工作部分的長度為50-100納米，間距為20-60納米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模具，其特征在于，
所述模具的材質(zhì)為疏水性熱固性橡膠聚合物。
6.一種取向膜的制作方法，其特征在于，包括：
在基板上均勻涂布一層所述取向膜的基底材料；
對所述涂布有所述基底材料的基板進行減壓干燥處理；
如權(quán)利要求1-5所述的模具按壓所述基底材料，在所述基底材料上形成數(shù)條溝槽；
對所述形成了數(shù)條溝槽的基底材料進行烘烤；
以噴涂的方式在所述具有溝槽的基底材料上覆蓋取向劑，形成所述取向膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，
當(dāng)所述基板為彩膜基板時，在所述彩膜基板上遠(yuǎn)離黑矩陣的一面均勻涂布一層所述取向膜的基底材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，
所述基底材料上形成的溝槽的深度為50~100納米。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，
在噴涂取向劑后，所述溝槽的深度變?yōu)?0~40納米。
10.根據(jù)權(quán)利要求6-9任一項所述的方法，其特征在于，
所述基底材料為丙烯酸樹脂，所述取向劑為聚酰亞胺。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
