[發明專利]一種碳納米管復合鍍層的制備方法

有效

• 申請號: 201210428179.1
• 申請日: 2012-10-31
• 公開（公告）號: CN102965706A
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 王升高;柳毅;孔曾杰;徐開偉;方小春;王傳新;汪建華
• 申請（專利權）人: 武漢工程大學
• 主分類號: C25D7/04
• 分類號: C25D7/04;C25D5/54
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 徐立

1.一種碳納米管復合鍍層致密性的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：

A、碳納米管改性：將碳納米管利用含氧的等離子體進行表面改性；

B、負載二氧化鈦：將改性后的所述碳納米管放置在相對濕度為80-90%的環境中，放置5-10分鐘后，將所述碳納米管放入由保護氣和四氯化鈦氣體組成的混合氣體中，放置3-5分鐘后，將所述碳納米管進行高溫處理，處理溫度為200-300℃，處理時間為10-20分鐘；

C、電鍍：將高溫處理后的所述碳納米管分散于電鍍液中對金屬材料進行電鍍，即可在所述金屬材料表面獲得高致密性的碳納米管金屬基復合鍍層。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述等離子體為微波等離子體、射頻等離子體、直流等離子體或阻擋介質放電等離子體。

3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，利用所述射頻等離子體對碳納米管進行改性的工藝參數為：工作氣壓80Pa，功率100W，工作氣體為空氣，氣體流速為100sccm，改性時間50s。

4.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，利用所述微波等離子體對碳納米管進行改性的工藝參數為：工作氣壓1kPa，功率200W，工作氣體為空氣或氧氣和氬氣的混合氣體，氣體流速為100sccm，改性時間20-30s。

5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述氧氣和氬氣的混合氣體中，所述氧氣的體積百分數為10-30%。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述保護氣和四氯化鈦氣體的混合氣體中，所述四氯化鈦氣體的體積百分數為3-6%。

7.根據權利要求1-6任一項所述的制備方法，其特征在于，所述保護氣為氮氣。

8.根據權利要求1-6任一項所述的制備方法，其特征在于，所述電鍍液中含有鎳離子、銅離子或鈷離子中的至少一種。

9.根據權利要求1-6任一項所述的制備方法，其特征在于，所述碳納米管在所述電鍍液中的含量為0.1-0.2g/L。

10.根據權利要求1-6任一項所述的制備方法，其特征在于，所述電鍍的工藝參數為：電鍍溫度25-40℃，電流密度2.2-3A/dm²，電鍍時間30-50min。