[發(fā)明專利]保持接口單元內(nèi)部潔凈度裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210425780.5 | 申請日: | 2012-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN103794466A | 公開(公告)日: | 2014-05-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王繼周;張爽;胡延兵;門恩國 | 申請(專利權(quán))人: | 沈陽芯源微電子設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/00 | 分類號: | H01L21/00 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
| 地址: | 110168 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 保持 接口 單元 內(nèi)部 潔凈 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體行業(yè)晶圓涂膠顯影生產(chǎn)領(lǐng)域,具體地說是一種保持接口單元內(nèi)部潔凈度裝置。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體前道工藝晶圓的生產(chǎn)過程中,對生產(chǎn)環(huán)境潔凈度和晶圓產(chǎn)能要求都非常嚴(yán)格。一般情況下凈化間潔凈度為100級,而TRACK(涂膠顯影設(shè)備)內(nèi)部潔凈度要求為1級;同時TRACK產(chǎn)能在90nm工藝中主流指標(biāo)為150WPH(Wafer?per?Hour)。在TRACK和光刻機(jī)實際生產(chǎn)中,會經(jīng)常因設(shè)備內(nèi)部故障或設(shè)備定期維護(hù)而導(dǎo)致設(shè)備停機(jī)。這種狀態(tài)下,作為TRACK與光刻機(jī)連接的接口單元需要被移出以便操作人員工作。現(xiàn)階段接口單元與TRACK或光刻機(jī)連接側(cè)面的設(shè)計為開放式,在被移出時接口單元直接暴露于生產(chǎn)環(huán)境中而導(dǎo)致內(nèi)部潔凈度下降,在恢復(fù)生產(chǎn)前為保證潔凈度指標(biāo)需進(jìn)行內(nèi)部送風(fēng)除塵。送風(fēng)除塵操作一般需耗時30-40分鐘,這種操作既消耗能源又浪費了生產(chǎn)時間,對現(xiàn)在要求的高速高質(zhì)生產(chǎn)模式構(gòu)成了一定的阻礙。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述問題,本發(fā)明的目的在于提供一種保持接口單元內(nèi)部潔凈度裝置,該保持接口單元內(nèi)部潔凈度裝置有效地解決接口單元兩側(cè)開口部直接暴露于生產(chǎn)環(huán)境中而導(dǎo)致內(nèi)部潔凈度下降,大幅提升實際生產(chǎn)的效率。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種保持接口單元內(nèi)部潔凈度裝置,所述裝置設(shè)置于與TRACK及光刻機(jī)連接的接口單元兩側(cè)開口部,包括遮蔽擋板和與其連接的驅(qū)動裝置,所述遮蔽擋板通過驅(qū)動裝置驅(qū)動關(guān)閉或打開接口單元與TRACK及光刻機(jī)相連接的開口部。
所述驅(qū)動裝置設(shè)置于接口單元的框架的內(nèi)壁上。所述遮蔽擋板與接口單元的開口部框架內(nèi)壁結(jié)合處設(shè)置密封裝置。所述驅(qū)動裝置與TRACK主機(jī)連接、并由TRACK主機(jī)控制其動作。
所述設(shè)置于接口單元與光刻機(jī)相連接處的裝置,其遮蔽擋板包括下板,下板與驅(qū)動裝置連接、并通過驅(qū)動裝置驅(qū)動關(guān)閉或打開接口單元與光刻機(jī)相連接的開口部。
所述設(shè)置于接口單元與TRACK連接處的裝置,其遮蔽擋板包括上板和下板I,所述上板和下板I分別設(shè)置于接口單元開口部的框架鈑金開口的上下兩端、并分別與獨立的驅(qū)動裝置連接,所述上板和下板I通過各自連接的驅(qū)動裝置驅(qū)動、同時相向運動或反相運動,實現(xiàn)關(guān)閉或打開接口單元與TRACK連接的開口部。
接口單元框架內(nèi)設(shè)有防止上板脫落的支撐裝置。所述支撐裝置包括氣缸III和氣缸架III,其中氣缸架III設(shè)置于接口單元框架的內(nèi)壁上,所述氣缸III設(shè)置于氣缸架III上、并一端設(shè)有導(dǎo)桿,所述導(dǎo)桿伸出、并設(shè)置于上板的下部,防止上板意外脫落。
所述框架的內(nèi)壁兩側(cè)設(shè)有導(dǎo)軌,所述上板和下板I的兩側(cè)通過滑塊在導(dǎo)軌上滑動。所述驅(qū)動裝置包括氣缸和氣缸架,其中氣缸通過氣缸架安裝在接口單元框架的內(nèi)壁上。
本發(fā)明的優(yōu)點及有益效果是:
1.本發(fā)明通過自動開閉接口單元開口部,實現(xiàn)了生產(chǎn)維護(hù)中對接口單元內(nèi)部空氣潔凈度的要求,很大程度上節(jié)省了再處理時間,提高產(chǎn)能節(jié)省經(jīng)費。
2.本發(fā)明具有結(jié)構(gòu)簡單,實現(xiàn)方便,價格低廉等特點。
3.本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)接口單元開口部自動開閉,根據(jù)實際情況的正常生產(chǎn)和維護(hù)可實時實現(xiàn)自動切換。
附圖說明
圖1為本發(fā)明在接口單元與光刻機(jī)連接處開口部的裝置結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明在接口單元與TRACK連接處開口部的裝置結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為圖2中II處放大圖;
圖4為圖2中I處放大圖;
其中:1為框架,2為框架鈑金開口I,3為進(jìn)氣管I,4為出氣管I,5為氣缸I,6為氣缸架I,7為下板I,8為滑塊,9為上板,10為氣缸架II,11為氣缸II,12為進(jìn)氣管II,13為出氣管II,14為氣缸II,15為氣缸固定板,16為進(jìn)氣管III,17為出氣管III,18為框架鈑金開口II,19為進(jìn)氣管IV,20為出氣管IV,21為氣缸IV,22為氣缸架IV,23為下板II。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步描述。
本發(fā)明設(shè)置于與TRACK及光刻機(jī)連接的接口單元兩側(cè)開口部,包括遮蔽擋板和與其連接的驅(qū)動裝置,所述遮蔽擋板通過驅(qū)動裝置驅(qū)動關(guān)閉或打開接口單元與TRACK及光刻機(jī)相連接的開口部,所述遮蔽擋板與接口單元開口部的框架內(nèi)壁結(jié)合處設(shè)置密封裝置。所述驅(qū)動裝置設(shè)置于接口單元的框架1的內(nèi)壁上,驅(qū)動裝置與TRACK主機(jī)連接、并由TRACK主機(jī)控制其動作。所述驅(qū)動裝置可采用氣缸裝置或電機(jī)。TRACK主機(jī)為現(xiàn)有技術(shù)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





