[發(fā)明專利]一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210424447.2
• 申請日: 2012-10-30
• 公開（公告）號: CN102912291A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉伍健;林銘祥;高啟斌
• 申請（專利權(quán)）人: 啟翔科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 中山市漢通知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44255
• 代理人: 古冠開

技術(shù)領(lǐng)域：

本發(fā)明涉及一種真空鍍膜形成圖紋的方法，尤其是一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的鍍膜加工方法，其需提供一具有鏤空圖案的金屬遮罩；再將該金屬遮罩與金屬工件的表面貼合；然后再通過人工直接將屏蔽油墨涂布于金屬遮罩的鏤空圖案處；待屏蔽油墨烘干后再去除金屬遮罩；然后再進(jìn)行物理蒸鍍；完成鍍膜后，再以溶劑去除屏蔽油墨，即可在金屬工件表面形成所需圖案。但該方法存在如下缺陷：1、工序復(fù)雜，且人工涂抹屏蔽油墨耗時，效率低。2、一般金屬遮罩只能制作粗短的直線與較大面積的幾何圖案，精細(xì)的線條與構(gòu)圖則難以達(dá)成。3、需提供金屬遮罩，成本高昂。4、人工涂抹之屏蔽油墨厚度較厚，烘干時容易產(chǎn)生油墨內(nèi)部未干透，導(dǎo)致真空鍍膜時產(chǎn)生油墨揮發(fā)現(xiàn)象，致使油墨周圍區(qū)域鍍膜覆著不良，影響圖案質(zhì)量。5、去除金屬遮罩時，有時會使干燥之油墨的邊緣同時剝落，不易修補(bǔ)，會造成鋸齒狀的線條，影響圖案的美觀。6、同一金屬遮罩經(jīng)人工涂抹屏蔽油墨后，最終形成于各金屬工件間的圖案存在明顯的差異。7、直接涂布屏蔽油墨法僅適用于平面型金屬工件，對于具有曲面的金屬工件，無法直接涂布。

發(fā)明內(nèi)容：

本發(fā)明的目的在于提供一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其工序簡單、且效率高，可形成精美、復(fù)雜圖紋。

一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于包括如下步驟：在一膠膜表面形成圖案屏蔽層；

清洗金屬工件并烘干備用；將膠膜覆蓋于金屬工件表面，使圖案屏蔽層與金屬工件表面接觸；烘烤金屬工件使圖案屏蔽層與金屬工件表面附著良好；去除膠膜；再次清洗并烘干金屬工件；對金屬工件的表面進(jìn)行物理真空蒸鍍完成鍍膜；去除圖案屏蔽層，即在金屬工件表面形成圖紋；清洗并烘干金屬工件。

本發(fā)明之在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，具有如下有益效果：

1、與現(xiàn)有方法相比，無需提供金屬遮罩，無需人工涂抹屏蔽油墨，工序簡單、且效率高。2、與形成于現(xiàn)有金屬遮罩上的粗短直線或簡單幾何圖案相比，在本發(fā)明之膠膜表面上可形成精美、復(fù)雜的圖案屏蔽層，從而可在金屬工件表面形成精美、復(fù)雜圖紋。3、無需提供金屬遮罩，可大大節(jié)約成本。4、無人工涂抹屏蔽油墨及去除金屬遮罩之步驟，可完全避免出現(xiàn)現(xiàn)有方法中存在的影響圖紋質(zhì)量的情況出現(xiàn)，進(jìn)一步提高圖紋質(zhì)量。5、本發(fā)明之膠膜，與金屬遮罩相比，可與不同結(jié)構(gòu)的金屬工件表面相貼合，不但適用于平面型金屬工件，而且還適用于帶曲面結(jié)構(gòu)的金屬工件，適用范圍廣。

作為上述方案的一種改進(jìn)，順序重復(fù)上述各步驟，在金屬工件表面形成由上述各鍍膜步驟完成的多層鍍膜組合構(gòu)成的圖紋，所述各層鍍膜顏色相異。

作為上述方案的進(jìn)一步改進(jìn)，在進(jìn)行上述各步驟前，所述金屬工件表面可預(yù)先通過物理真空蒸鍍形成底色層，該底色層與所述經(jīng)物理真空蒸鍍完成的鍍膜層顏色相異。

作為上述方案的再一步改進(jìn)，所述物理真空蒸鍍包括真空電弧鍍、磁控濺射、空心陰極鍍、電子束鍍、熱蒸鍍之一或上述方法的任意復(fù)合。

作為上述方案的再一步改進(jìn)，所述金屬工件為鈦合金工件、不銹鋼工件、鋁合金工件、或表面電鍍有鎳或鉻的工件。

作為上述方案的再一步改進(jìn)，所述鍍膜步驟中形成的鍍膜層，其材質(zhì)為鈦、鉻、鋁、鋯、上述四種金屬的氧化物、氮化物或碳化物中的任一種，或者其材質(zhì)為鈦合金、鉻合金、鋁合金、或鋯合金中任一種。

作為上述方案的再一步改進(jìn)，所述形成的圖紋由任意線條或點(diǎn)陣構(gòu)成，其最小線寬為0.5cm，最小并行線距為0.5cm，最小點(diǎn)直徑為0.5cm，最小點(diǎn)距為0.5cm。

附圖說明：

圖1為本發(fā)明之膠膜的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖2為本發(fā)明之金屬工件的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖3為本發(fā)明之膠膜貼于金屬工件后的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖4為圖3的金屬工件在去除膠膜后的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖5為圖4的金屬工件在進(jìn)行物理真空蒸鍍完成鍍膜步驟后的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖6為圖5的金屬工件在去除圖案屏蔽層后、形成圖紋的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖7為本發(fā)明另一實(shí)施例的金屬工件在去除圖案屏蔽層后、形成圖紋的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖8為本發(fā)明又一實(shí)施例的金屬工件在去除圖案屏蔽層后、形成圖紋的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖9為本發(fā)明再一實(shí)施例的金屬工件在去除圖案屏蔽層后、形成圖紋的局部結(jié)構(gòu)剖視圖。

具體實(shí)施方式：

實(shí)施例一，一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，包括如下步驟：