[發明專利]一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法

無效

• 申請號: 201210424447.2
• 申請日: 2012-10-30
• 公開（公告）號: CN102912291A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發明（設計）人: 劉伍健;林銘祥;高啟斌
• 申請（專利權）人: 啟翔科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 中山市漢通知識產權代理事務所 44255
• 代理人: 古冠開

1.一種在金屬工件表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于包括如下步驟：

在一膠膜表面形成圖案屏蔽層；

清洗金屬工件并烘干備用；

將膠膜覆蓋于金屬工件表面，使圖案屏蔽層與金屬工件表面接觸；

烘烤金屬工件使圖案屏蔽層與金屬工件表面附著良好；

去除膠膜；

再次清洗并烘干金屬工件；

對金屬工件的表面進行物理真空蒸鍍完成鍍膜；

去除圖案屏蔽層，即在金屬工件表面形成圖紋；

清洗并烘干金屬工件。

2.根據權利要求1所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于：順序重復上述各步驟，在金屬工件表面形成由上述各鍍膜步驟完成的多層鍍膜組合構成的圖紋，所述各層鍍膜顏色相異。

3.根據權利要求1或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于：在進行上述各步驟前，所述金屬工件表面可預先通過物理真空蒸鍍形成底色層，該底色層與所述經物理真空蒸鍍完成的鍍膜層顏色相異。

4.根據權利要求1或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于：所述物理真空蒸鍍包括真空電弧鍍、磁控濺射、空心陰極鍍、電子束鍍、熱蒸鍍之一或上述方法的任意復合。

5.根據權利要求1或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于：所述金屬工件為鈦合金工件、不銹鋼工件、鋁合金工件、或表面電鍍有鎳或鉻的工件。

6.根據權利要求1或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于：所述鍍膜步驟中形成的鍍膜層，其材質為鈦、鉻、鋁、鋯四種金屬的氧化物、氮化物或碳化物中的任一種，或者其材質為鈦合金、鉻合金、鋁合金、或鋯合金中任一種。

7.根據權利要求1或2所述的一種在金屬表面真空鍍膜形成圖紋的方法，其特征在于：所述形成的圖紋由任意線條或點陣構成，其最小線寬為0.5cm，最小并行線距為0.5cm，最小點直徑為0.5cm，最小點距為0.5cm。