[發明專利]一種新的腐蝕工藝無效
| 申請號: | 201210423749.8 | 申請日: | 2012-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN103794681A | 公開(公告)日: | 2014-05-14 |
| 發明(設計)人: | 王紅亞 | 申請(專利權)人: | 王紅亞 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 264006 *** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 腐蝕 工藝 | ||
【權利要求書】:
1.一種新的腐蝕工藝,其特征在于,所述工藝步驟如下:
(1)刻蝕:將待刻蝕晶片放入刻蝕機中刻蝕;
(2)去膠:刻蝕完的晶片按照順序裝入花籃中,將花籃放入正膠剝離液3368中,去膠后鏡檢,進行氧離子體打膠;
臺階儀測試:去膠結束后,使用臺階儀測量刻蝕臺階;
ITO退火:將刻蝕符合要求的晶片,進行ITO退火處理;
(5)PECVD:ITO退火后的晶片,在其表面淀積一層二氧化硅保護膜;用氧化氟膜厚分析儀測量陪片(Si片)上的二氧化硅厚度和折射率。
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