[發明專利]MTP存儲單元在審
| 申請號: | 201210422438.X | 申請日: | 2012-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN103794246A | 公開(公告)日: | 2014-05-14 |
| 發明(設計)人: | 仲志華 | 申請(專利權)人: | 上海華虹宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號: | G11C16/02 | 分類號: | G11C16/02 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁紀鐵 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | mtp 存儲 單元 | ||
1.一種MTP存儲單元,其特征是,包括:選擇晶體管(N1)、編程電容(C1)和擦除電容(C2);
選擇晶體管(N1)的漏端作為MTP存儲單元的位線(BL),選擇晶體管(N1)源端作為整個MTP存儲單元的源端(SG);
編程電容(C1)的上極板和選擇晶體管(N1)柵極相連,為同一個浮柵;
編程電容(C1)的下極板是整個MTP存儲單元的字線(WL);
擦除電容(C2)的上極板作為MTP存儲單元的擦除端(EG);
擦除電容(C2)的下極板與編程電容(C1)的上極板相連,為同一個浮柵。
2.如權利要求1所述的MTP存儲單元,其特征是:所述選擇晶體管(N1)是NMOS晶體管,編程電容(C1)是NWC電容,擦除電容(C2)是MIP電容。
3.如權利要求1所述的MTP存儲單元,其特征是:所述擦除電容(C2)上極板的金屬材質為硅化鎢,其厚度為1000埃~3000埃,其上極板和下極板之間介質膜是二氧化硅,其厚度為200埃~300埃。
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