[發(fā)明專利]一種OGS產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中在玻璃基材上覆蓋油墨層的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210422050.X | 申請日: | 2012-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN102964065A | 公開(公告)日: | 2013-03-13 |
| 發(fā)明(設計)人: | 周朝平;水維清;肖新煌;林鐘泉 | 申請(專利權)人: | 晟光科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/00 | 分類號: | C03C17/00 |
| 代理公司: | 安徽合肥華信知識產(chǎn)權代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
| 地址: | 233000 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 ogs 產(chǎn)品 生產(chǎn)過程 玻璃 基材 覆蓋 油墨 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及電子信息領域,特別涉及一種OGS產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中在玻璃基材上覆蓋油墨層的方法。
背景技術
電容式觸摸屏是繼電阻式觸摸屏之后新一代的面向市場的觸摸屏,他在性能上比上一代的產(chǎn)品有了質的飛躍,不僅反映靈敏,而且支持多點觸控,使觸控產(chǎn)品的可玩性和可操作性大大提高。而新一代的OGS產(chǎn)品是電容式觸摸屏的新的發(fā)展方向,從技術層面來看,OGS技術較之目前主流的G/G觸控技術結構簡單,輕、薄、透光性好;由于省掉一片玻璃基材以及貼合工序,利于降低生產(chǎn)成本、提高產(chǎn)品良率。但在實際的研發(fā)生產(chǎn)過程中,該技術又面臨著油墨附著力差,有針孔現(xiàn)象的存在,絲印油墨難以做到高遮蓋性,膜層表面的平整性,邊沿的臺階狀況等,一層玻璃兼做表面玻璃時該有的強度維持與質量穩(wěn)定性、控制芯片的調校等問題。
由于我們目前的絲印設備、工藝技術條件等的限制,采用絲印油墨,即直接在玻璃基材上絲印出黑色油墨,容易出現(xiàn)附著力差,高遮蓋性較差,存在針孔現(xiàn)象。同時絲印的油墨厚度通常比較厚,膜層表面的平整性,邊沿的臺階狀況等。原因是:①由于油墨表面張力大,對玻璃基材附著力不好,或玻璃基材上油污對油墨排斥。②由于溶劑配比不當,特別是蒸發(fā)快的溶劑,猛烈沖出,形成旋渦,油墨中混入大量氣泡,烘烤中氣泡破裂;③油墨連結料中存在著溶解不完全的小顆粒與顏料帶有相同電荷,互相排斥干燥。這些因素均會造成透底的針孔。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的就是針對現(xiàn)有的OGS產(chǎn)品絲印油墨附著力差,有針孔現(xiàn)象存在的問題,提出一種OGS產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中在玻璃基材上覆蓋油墨層的方法。
本發(fā)明的技術方案是:
一種OGS產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中在玻璃基材上覆蓋油墨層的方法,其特征在于,具體包括以下步驟:
(1)將玻璃基材插到鈦合金制作的堿液槽里進行超聲波堿液預清洗,清洗時間:15~20分鐘,堿液濃度:0.1~1.5mol/L,堿液槽溫度:35±5℃,堿液槽超聲頻率:60%~90%,清洗完之后將其投入到清水槽進行超聲清洗,溫度及超聲頻率同上;
(2)將玻璃基材投入到自動清洗線進行清洗,徹底去除油污和灰塵;自動清洗線包括隔離、純水刷洗、液切、純水噴淋、末端滴水、風刀吹干,再經(jīng)過UV固化爐進行水分的烘干;
各部分參數(shù)如下:
清洗線的傳送速度:200±50cm/min,清洗溫度:35±5℃,純水刷洗和純水噴淋壓力:上:0.6±0.1kg/cm2,下:0.4±0.1kg/cm2,液切壓力:上:1.0±0.5KPa,下:0.5±0.3KPa,末端滴水的水流量:8~10L/min,吹干壓力:上:2.0±0.5KPa?,下:1.0±0.5KPa,UV固化爐六段都為90mj/mm2,傳送速度:2.2±0.2m/min;
(3)對感光油墨進行處理:在感光油墨中加入消泡劑,感光油墨中消泡劑的添加量為0.1~1%,充分攪拌,使油墨內氣泡打破;
(4)把玻璃基材置于一個平臺上,利用旋涂機將事先處理的感光油墨刮涂在玻璃基材上,感光油墨均勻地附著在整張玻璃基材上,利用旋涂機旋轉將油墨的厚度控制在10~20um內,再通過真空箱進行抽真空處理,將油墨里的氣泡抽走,避免在烘烤時出現(xiàn)氣泡破裂,從而出現(xiàn)針孔現(xiàn)象,最后通過IR爐進行預烘;
各部分參數(shù)如下:
注油墨氣壓:0.025±0.1MPa,注油墨時間:0.5±0.3s,回油墨時間:0.5±0.3S,平臺速度:100~300mm/s,旋涂速度:500~800rpm,旋涂時間:5~8s,IR爐傳送速度:2.2±0.2m/min,10段IR爐溫度:150±5℃,真空箱抽氣速率:15L/S,極限壓力:0.1MPa;
(5)對玻璃基材上的油墨層進行曝光,即在油墨上光刻出油墨區(qū)域圖形,紫外線光源的光經(jīng)過小反射鏡反射至大反射鏡,再經(jīng)過大反射鏡反射,大反射鏡的反射光透過掩膜版投射在油墨層上,曝光條件為:紫外光波長:365nm,光通量:60~150mj/mm2,油墨圖案的掩膜版是菲林或者鉻板,距離玻璃基材的尺寸200~300um,;
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