[發明專利]有機EL器件制造裝置

無效

• 申請號: 201210417798.0
• 申請日: 2012-10-26
• 公開（公告）號: CN103088300A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 圖師庵;龜山大樹;福島真;鄭載勛;李相雨
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高新技術
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;H05B33/10;H01L51/56
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 張敬強;嚴星鐵

技術領域

本發明涉及有機EL器件制造裝置，特別是涉及能夠在成膜時等高精度地控制基板與掩模的間隙的有機EL器件制造裝置。

背景技術

作為制造有機EL器件的有效方法有真空蒸鍍法。真空蒸鍍法是在真空處理室內，例如在使玻璃基板等基板與掩模重合的狀態下，將它們暴露于處理氣體中實施蒸鍍處理的方法。另外，近年來，隨著處理基板的大型化，G6代的基板尺寸已達到1500mm×1800mm。為了與這種大型基板相對應，在垂直地保持基板面的狀態下將其暴露于處理氣體中實施蒸鍍處理。在下述的專利文獻1中公開了如下技術，即、在垂直地保持基板面的狀態下，使掩模靠近基板，并在使基板與掩模重合的狀態下，實施蒸鍍處理。

如上所述，在真空處理室內垂直地保持大型基板的基板面，在重合了掩模的狀態下實施蒸鍍處理的場合，為了降低蒸鍍的模糊，進行高精度的蒸鍍，需要高精度地控制基板與掩模的間隙，例如使其達到數十μm以下。一直以來，雖然將放置基板的基板座表面的平坦度機械加工到例如約20μm以下，并提高使基板座移動的移動引導機構的機械加工精度，從而控制基板與掩模的間隙，尤其是在使大型基板為垂直的情況下，不容易在整個基板面的范圍內高精度地控制基板與掩模的間隙。

現有技術文獻

專利文獻1：日本特開2010－086956號公報

發明內容

本發明的目的在于提供一種能夠將基板與掩模的間隙控制在例如數十μm以下的高精度的有機EL器件制造裝置。

為了實現上述目的，在本發明的有機EL器件制造裝置中，具有：

蔭罩，該蔭罩設置在真空處理室內；

基板座，該基板座設置在真空處理室內，包含用于放置基板的基板放置區域的第一面為長方形；

基板密合機構，該基板密合機構使放置在上述基板座上的基板與上述蔭罩之間接近或分離；以及

距離計測機構，該距離計測機構在上述基板座上設置于基板放置區域外的四角，

上述有機EL器件制造裝置的特征在于，

上述距離計測機構具有：

距離計測用空間，該距離計測用空間在上述基板座上設置于基板放置區域外的四角，并設置成貫通上述基板座的第一面和與該第一面相反一側的第二面；

透明玻璃板，該透明玻璃板在上述距離計測用空間中設置于上述基板座的第一面上；以及

距離計測部，該距離計測部在上述距離計測用空間中配置于上述基板座的第二面上，

上述距離計測部具有：

對對象物發射光并接收從該對象物反射來的反射光，以計測與上述對象物之間的距離的距離計；

使上述距離計與真空處理室內的氣氛隔離的距離計箱體；以及

設置在上述距離計箱體的一部分上的透明玻璃窗，

上述距離計接收通過上述透明玻璃窗從上述透明玻璃板反射來的反射光、以及通過上述透明玻璃窗從上述蔭罩反射來的反射光，并根據該接收光的結果來計測上述透明玻璃板與上述蔭罩之間的距離。

本發明的效果如下。

根據本發明，能夠提供可將基板與掩模的間隙控制在例如數十μm以下的高精度的有機EL器件制造裝置。

附圖說明

圖1是表示本發明的實施方式的有機EL器件制造裝置的圖。

圖2是表示本發明的實施方式的搬運腔及處理腔的結構概要的圖。

圖3是本發明的實施方式的搬運腔及處理腔的構成模式圖。

圖4是表示本發明的實施方式的動作流程的圖。

圖5是表示本發明的實施方式的基板旋轉機構及基板密合機構的圖。

圖6是表示本發明的實施方式的基板座的結構及定位時的基板的姿勢的圖。

圖7是表示本發明的實施方式的定位部的結構的圖。

圖8是表示本發明的實施方式的距離測量機構的圖。

圖9是表示本發明的實施方式的基板掩模固定裝置的實施例的圖，是在圖5中加上上述實施例的圖。

圖中：