[發明專利]一種液晶顯示設備及其制造方法

無效

• 申請號: 201210407459.4
• 申請日: 2012-10-23
• 公開（公告）號: CN102914926A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發明（設計）人: 張祖翰;黃國有;陳茂松
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1333;G09F9/35
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種液晶顯示設備的制造方法，其特征在于，該制造方法包括以下步驟：

于一基板上形成一數據線以及一像素，其中，所述像素位于所述液晶顯示設備的顯示區；

形成一圖案化的第一保護層于所述數據線的上方以及所述像素的上方；

形成一圖案化的蝕刻阻止層于所述第一保護層的上方；

形成一圖案化的第二保護層于所述蝕刻阻止層的上方；以及

依次蝕刻所述像素上方的所述第二保護層和蝕刻阻止層，

其中，藉由所述第一保護層、蝕刻阻止層和第二保護層的層疊結構對所述數據線進行保護，以及藉由所述第一保護層對所述像素進行保護。

2.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述蝕刻阻止層為一非晶硅層。

3.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，該制造方法還包括：

形成一共通電極層于所述數據線上方的第二保護層之上以及所述像素上方的第一保護層之上；以及

蝕刻所述像素上方的所述共通電極層，以形成圖案化的共通電極線。

4.一種液晶顯示設備的制造方法，其特征在于，該制造方法包括以下步驟：

于一基板上形成一數據線以及一像素，其中，所述像素位于所述液晶顯示設備的顯示區；

形成一圖案化的第一保護層于所述數據線的上方以及所述像素的上方；

形成一圖案化的蝕刻阻止層于所述第一保護層的上方；以及

蝕刻所述像素上方的所述蝕刻阻止層，

其中，藉由所述第一保護層和所述蝕刻阻止層的層疊結構對所述數據線進行保護，以及藉由所述第一保護層對所述像素進行保護。

5.根據權利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述第一保護層的材質為氮化硅，所述蝕刻阻止層的材質為氧化硅。

6.根據權利要求4所述的制造方法，其特征在于，該制造方法還包括以下步驟：

形成一光刻膠層于所述蝕刻阻止層的上方，其中，所述數據線上方的光刻膠層為不透明膜，所述像素上方的光刻膠層為半透明膜；

移除所述像素上方的光刻膠層；以及

在所述像素上方的蝕刻阻止層被蝕刻后，移除所述數據線上方的光刻膠層。

7.一種液晶顯示設備，其特征在于，所述液晶顯示設備包括：

一基板；

一數據線，形成于所述基板上；

一像素，形成于所述基板上，且位于所述液晶顯示設備的顯示區；

一圖案化的第一保護層，形成于所述數據線的上方以及所述像素的上方；以及

一圖案化的蝕刻阻止層，形成于所述數據線上方的第一保護層之上，

其中，藉由所述第一保護層和所述蝕刻阻止層的層疊結構對所述數據線進行保護，以及藉由所述第一保護層對所述像素進行保護。

8.根據權利要求7所述的液晶顯示設備，其特征在于，所述液晶顯示設備還包括：

一圖案化的第二保護層，形成于所述蝕刻阻止層的上方；以及

一共通電極層，形成于所述第二保護層的上方以及所述像素上方的第一保護層之上，其中，所述像素上方的共通電極層呈現一預設圖案。

9.根據權利要求8所述的液晶顯示設備，其特征在于，所述蝕刻阻止層為一非晶硅層。

10.根據權利要求7所述的液晶顯示設備，其特征在于，所述第一保護層的材質為氮化硅，所述蝕刻阻止層的材質為氧化硅。