[發明專利]光刻設備和襯底處理方法

無效

• 申請號: 201210405979.1
• 申請日: 2012-10-23
• 公開（公告）號: CN103091998A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: R·W·L·拉法瑞;H·M·塞格斯;T·P·M·卡迪;黃仰山;C·L·瓦倫丁
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/687
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王靜

1.一種光刻設備，布置用以將圖案從圖案形成裝置轉移至襯底上，所述光刻設備包括構造用以保持襯底的襯底臺和布置用以將襯底定位在襯底臺上的夾具，所述夾具包括真空夾緊裝置，所述真空夾緊裝置布置成在襯底的頂側夾緊襯底。

2.如權利要求1所述的光刻設備，其中真空夾緊裝置布置成夾緊襯底頂表面的圓周外部區域的至少一部分。

3.如權利要求1或2所述的光刻設備，其中真空夾緊裝置包括兩個同心的密封件和形成在所述密封件之間的真空室。

4.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中真空夾緊裝置包括布置用以夾緊襯底頂表面的圓周外部區域的至少一部分的真空室和與所述真空室同心的另一真空室，所述另一真空室用以夾緊襯底表面的中心區域的至少一部分。

5.如權利要求4所述的光刻設備，其中所述另一真空室包括多個真空入口管道，所述光刻設備包括用以測量襯底的平坦度的傳感器和用以根據所測量的平坦度控制施加真空至每個真空入口管道的真空施加控制器。

6.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中真空夾緊裝置包括剛性夾具框架和布置成接觸襯底表面的至少一個順應性夾具部分，所述順應性夾具部分相對于剛性夾具框架是能夠移動的。

7.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中真空夾緊裝置包括兩個同心的軟密封件、用以在軟密封件之間形成的真空室內供應真空的真空供給口以及在真空供給口的兩側上的真空室內的環形突出部，所述突出部被形成用于當通過夾具夾緊襯底時基本上切斷至真空室的剩余部分的真空供給。

8.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中真空夾緊裝置包括形成在真空室內的接觸結構，所述接觸結構布置成當通過夾具夾持襯底時建立與襯底的接觸。

9.如權利要求8所述的光刻設備，其中真空夾緊裝置包括真空供給口和用以形成外部密封的環形軟密封件，所述接觸結構是環形的且與軟環形軟密封件同心，所述真空供給口被設置到環形軟密封件和接觸結構之間的真空室中。

10.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中真空夾緊裝置包括夾具框架和從夾具框架延伸的環形密封件，以形成真空室。

11.如權利要求10所述的光刻設備，其中環形密封件包括環形剃刀刀口。

12.如權利要求10所述的光刻設備，其中環形密封件包括環形刀和用以將環形刀連接至夾具框架的彈簧結構。

13.一種襯底處理方法，包括步驟：

使用夾具將襯底定位在光刻設備的襯底臺上，所述定位步驟包括使用所述夾具的真空夾緊裝置在襯底的頂側夾緊襯底。

14.如權利要求13所述的襯底處理方法，包括夾緊襯底頂表面的圓周外部區域的至少一部分。

15.一種用于處理襯底的襯底處理裝置，所述襯底處理裝置包括夾具，所述夾具配置成夾持襯底并將襯底定位在襯底臺上，其中所述夾具包括布置成在襯底頂側處夾緊襯底的真空夾緊裝置。