[發明專利]一種真空蒸鍍銀膜的方法及設備無效
| 申請號: | 201210400200.7 | 申請日: | 2012-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN102953032A | 公開(公告)日: | 2013-03-06 |
| 發明(設計)人: | 李宏富 | 申請(專利權)人: | 浙江笙富精密科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/20;C23C14/56 |
| 代理公司: | 臺州市中唯專利事務所 33215 | 代理人: | 孫兆文 |
| 地址: | 318020 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 真空 鍍銀 方法 設備 | ||
技術領域
本發明涉及鍍膜技術,具體一種真空蒸鍍銀膜的方法及設備。
背景技術
在紡織行業中廣泛應用的陶瓷物質如Al2O3、MgO、ZnO、TiO2、CaCO3等,本質是類金屬氧化物,事實上,當這些的粒度微細到30~200nm,即達到納米級粒度時,納米效應帶來的力學、光學、催化、熱學等性質以及在生物活性和化學反應性等方面的特殊性能,使其在紡織、后整理等領域顯示出重要價值;但是PET塑料薄膜的性能會根據氣候的變化而變化,溫濕度過高薄膜的吸水率也會相應提高,最大吸水率可達到1%。塑料薄膜接觸空氣后,吸收水汽會造成蒸鍍后純銀膜顏色變化,使純銀膜變黃并產生氧化或與空氣中的成分在高溫的條件下發生化學反應。
發明內容
本發明的目的在于提供一種真空蒸鍍銀膜的方法,通過控制金屬銀的蒸發速度、基材薄膜的移動速度以及蒸鍍室內的真空度等可以事先控制鍍銀層的厚度。
為實現上述目的采用以下技術方案:
一種真空蒸鍍銀膜的設備,包括真空蒸鍍機,其特征在于:在所述的真空蒸鍍機內設有蒸鍍室、真空泵和動力裝置,蒸鍍室內設有放卷站、收卷站和冷卻輥卷,真空蒸鍍機內還設有高頻感應加熱器,高頻感應加熱器與蒸鍍室之間設有檔板。
一種真空蒸鍍銀膜的方法,其特征在于:先將卷筒狀的待鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機的放卷站上,將薄膜穿過真空蒸鍍機的冷卻輥卷,最后繞在收卷站上,然后采用真空泵對蒸鍍室進行抽真空脫氣,接著利用高頻感應加熱器使高純度的固態銀融化并蒸發成氣態銀,接著啟動薄膜卷繞系統,當薄膜運行到一定的速度后,打開蒸鍍室的擋板使氣態銀微粒噴射到經過已冷卻的薄膜上,然后通過收卷站將蒸鍍銀膜的薄膜收卷。
所述的真空泵對蒸鍍室抽真空脫氣,使蒸鍍室內的真空度達到4×10-4pa以上。
所述的高頻感應加熱器使高純度的固態銀加熱至1500℃以上。?
可通過控制金屬銀的蒸發速度和基材薄膜的移動速度以及蒸鍍室內的真空度等來控制鍍銀層的厚度。
薄膜基材在放入真空蒸鍍機之前在薄膜基材表面涂上附著層。
蒸鍍銀膜后馬上在銀膜表面涂上外保護層。
一種真空蒸鍍銀膜的設備,包括真空蒸鍍機,其特征在于:在所述的真空蒸鍍機內設有蒸鍍室、真空泵和動力裝置,蒸鍍室內設有放卷站、收卷站和冷卻輥卷,真空蒸鍍機內還設有高頻感應加熱器,高頻感應加熱器與蒸鍍室之間設有檔板。
本發明通過基材放卷-抽真空-高頻感應加熱銀-主導輥冷卻薄膜-蒸鍍-測厚-冷卻過程實現薄膜的蒸鍍,出來的鍍銀膜具有反射率及光學性能好,銀膜附著牢固、無斑點的特點。
附圖說明
圖1、本發明的設備的結構示意圖。
具體實施方式
如圖1所示,一種真空蒸鍍銀膜的設備,包括真空蒸鍍機1,在所述的真空蒸鍍機內設有蒸鍍室11、真空泵13和動力裝置12,蒸鍍室內11設有放卷站14、收卷站15和冷卻輥卷16,真空蒸鍍機內還設有高頻感應加熱器17,高頻感應加熱器17與蒸鍍室11之間設有檔板18。
真空蒸鍍銀膜的方法:將薄膜基材在放入真空蒸鍍機之前在薄膜基材表面涂上附著層,附著層采用三聚氫胺噴涂,再將卷筒狀的待鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機的放卷站上,將薄膜穿過真空蒸鍍機的冷卻輥卷,最后繞在收卷站上;然后真空泵對蒸鍍室進行抽真空脫氣,使蒸鍍室內的真空度達到4×10-4pa以上,接著利用高頻感應加熱器使高純度的固態銀加熱至1500℃以上,使之融化并蒸發成氣態銀,然后再啟動薄膜卷繞系統,當薄膜運行到一定的速度后,再打開蒸鍍室與高頻感應加熱器之間的擋板使氣態銀微粒噴射到經過已冷卻的薄膜上,由于氣態銀處于高溫狀態,將薄膜事先經過-25℃冷卻輥卷冷卻之后,使銀微粒與之接觸前就因受到周圍環境影響,迅速降溫,銀微粒在移動的薄膜基材表面沉積形成一層連續而光亮的金屬銀層,同時保護薄膜不產生形變,最后通過收卷站將蒸鍍銀膜的薄膜收卷;薄膜收卷后還需馬上在銀膜表面涂上三聚氫胺,三聚氫胺在銀膜表面形成一層外保護層以達到防氧化的作用。
本發明蒸鍍過程需要注意:
為去除薄膜的水分:針對塑料薄膜的高吸附水率1%,必須要制止并防止在制作過程及鍍銀后再吸附水分,首先可利用抽真空脫氣的方法將水分抽出,或用涂色機烘干的方式反復測試比較何種為宜;為保證蒸鍍的銀膜無斑點,將蒸鍍初期階段銀原子的入射角,密度,蒸鍍速度做適當的調整。
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