[發明專利]一種真空蒸鍍銀膜的方法及設備

無效

• 申請號: 201210400200.7
• 申請日: 2012-10-20
• 公開（公告）號: CN102953032A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 李宏富
• 申請（專利權）人: 浙江笙富精密科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/20;C23C14/56
• 代理公司: 臺州市中唯專利事務所 33215
• 代理人: 孫兆文

1.一種真空蒸鍍銀膜的方法，其特征在于：先將卷筒狀的待鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機的放卷站上，將薄膜穿過真空蒸鍍機的冷卻輥卷，最后繞在收卷站上，然后采用真空泵對蒸鍍室進行抽真空脫氣，接著利用高頻感應加熱器使高純度的固態銀融化并蒸發成氣態銀，接著啟動薄膜卷繞系統，當薄膜運行到一定的速度后，打開蒸鍍室的擋板使氣態銀微粒噴射到經過已冷卻的薄膜上，然后通過收卷站將蒸鍍銀膜的薄膜收卷。

2.如權利要求1所述的一種真空蒸鍍銀膜的方法，其特征在于：所述的真空泵對蒸鍍室抽真空脫氣，使蒸鍍室內的真空度達到4×10^-4pa以上。

3.如權利要求1所述的一種真空蒸鍍銀膜的方法，其特征在于：所述的高頻感應加熱器使高純度的固態銀加熱至1500℃以上。

4.如權利要求1所述的一種真空蒸鍍銀膜的方法，其特征在于：可通過控制金屬銀的蒸發速度和基材薄膜的移動速度以及蒸鍍室內的真空度等來控制鍍銀層的厚度。

5.如權利要求1所述的一種真空蒸鍍銀膜的方法，其特征在于：薄膜基材在放入真空蒸鍍機之前在薄膜基材表面涂上附著層。

6.如權利要求1所述的一種真空蒸鍍銀膜的方法，其特征在于：蒸鍍銀膜后馬上在銀膜表面涂上外保護層。

7.如權利要求1所述的一種真空蒸鍍銀膜的方法，其特征在于：所述的薄膜經冷卻輥卷冷卻后，溫度降到--25℃以下。

8.一種真空蒸鍍銀膜的設備，包括真空蒸鍍機，其特征在于：在所述的真空蒸鍍機內設有蒸鍍室、真空泵和動力裝置，蒸鍍室內設有放卷站、收卷站和冷卻輥卷，真空蒸鍍機內還設有高頻感應加熱器，高頻感應加熱器與蒸鍍室之間設有檔板。