[發(fā)明專利]一種擠塑裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210400197.9 | 申請(qǐng)日: | 2012-10-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103770309A | 公開(公告)日: | 2014-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳登國(guó) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鄭州漢通電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | B29C47/12 | 分類號(hào): | B29C47/12 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 450000 河南省鄭州市經(jīng)*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種硅橡膠高壓阻尼線擠壓包覆保護(hù)層時(shí)使用的擠壓模頭,?屬阻尼線工藝裝備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
雙層硅橡膠高壓阻尼線的生產(chǎn)時(shí),?傳統(tǒng)方法都是采用二次分步擠塑工藝,?即第一次對(duì)芯線擠塑絕緣層,?包覆好絕緣層的線體經(jīng)熱烘道熱空氣硫化后,?再進(jìn)行第二次保護(hù)層膠橡膠擠塑,?進(jìn)行二次硫化處理,?二次擠塑工藝采用對(duì)應(yīng)采用單層擠塑模頭,?該擠出工藝工序復(fù)雜,?二次硫化能耗高、?工效低、?材料浪費(fèi)大,?產(chǎn)品一致性和質(zhì)量水平差。
發(fā)明內(nèi)容
一種擠塑裝置由微型處理器、?擠塑模塊、?保護(hù)層擠壓模塊、空腔體組成,?空腔體上下方向設(shè)有錐形模孔,?對(duì)此對(duì)應(yīng),?保護(hù)層擠壓模塊、?擠塑模塊、微型處理器外形為相互配合的帶臺(tái)階錐形,?同時(shí)上述三模塊中心分別設(shè)置保護(hù)層擠塑腔、?絕緣層擠塑腔、?芯線孔,?依次裝入空腔體錐形模孔內(nèi)形成模頭體,?該模頭體橫向中部?jī)蓚?cè)設(shè)有穿過(guò)外模塊、?保護(hù)層擠壓模塊與擠塑機(jī)機(jī)頭相連的心軸。
本發(fā)明的有益效果是?:使雙層硅橡膠阻尼線生產(chǎn)時(shí)的二次擠塑改進(jìn)為一次擠塑,?二次硫化改進(jìn)為一次硫化,?簡(jiǎn)化了擠出工藝,?降低了能耗和成本,?提高工效,?提高了產(chǎn)品質(zhì)量。
附圖說(shuō)明
圖?1?是本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖
圖中?1-微型處理器、?2-擠塑模塊、?3-保護(hù)層擠壓模塊、?4-空腔體、?5-擠塑機(jī)機(jī)頭、?6-?保護(hù)層擠塑腔、?7-?絕緣層擠塑腔、?8-?芯線孔。
具體實(shí)施方式
一種擠塑裝置由微型處理器?1、?擠塑模塊?2、?保護(hù)層擠壓模塊3、?空腔體4組成,?空腔體4軸向設(shè)有錐形模孔,?對(duì)此對(duì)應(yīng),?保護(hù)層擠壓模塊3、?擠塑模塊2、?微型處理器1外形為相互配合的帶臺(tái)階錐形,?同時(shí)上述三模塊中心分別設(shè)置保護(hù)層擠塑腔?6、?絕緣層擠塑腔?7、?芯線孔?8,?并依次裝入空腔體錐形模孔內(nèi)形成模頭體,?該模頭體橫向中部一側(cè)設(shè)有可穿過(guò)外模塊、?保護(hù)層擠壓模塊至絕緣層模塊外壁的通孔,?另一側(cè)設(shè)有可穿過(guò)外模塊、?保護(hù)層擠壓模塊、?擠塑模塊至絕緣層擠塑腔的通孔,?擠塑機(jī)機(jī)頭?5?通過(guò)該通孔與本發(fā)明共擠模頭相連。
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