[發明專利]用于半導體設備制造裝備的延伸主機設計

有效

• 申請號: 201210396242.8
• 申請日: 2006-12-20
• 公開（公告）號: CN103021908A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: M·R·賴斯
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陸勍

本發明專利申請是國際申請號為PCT/US2006/048695，國際申請日為2006年12月20日，進入中國國家階段的申請號為200680048123.6，名稱為“用于半導體設備制造裝備的延伸主機設計”的發明專利申請的分案申請。

技術領域

本發明關于半導體元件制造，尤其是關于用于半導體元件制造設備的延伸主機設計。

背景技術

半導體元件的制造制程通常是以具有數個主機的工具進行，而主機中有多個處理室及/或負載鎖定室耦接環繞中央傳送處理室。所述處理室各可進行特定制程，或于許多情況中，可進行額外及/或相關制程。

為確保能適當操作半導體元件制造工具，工具的處理室、負載鎖定室及其它處理室必須作維護，故需充分存取以維護處理室。然而，于某些情況中，提供這樣的存取可能會限制系統產量。

發明內容

于本發明第一方式中，第一主機是用于半導體元件制造。該第一主機包括(1)側壁，可界定中央傳送區域，用于容設機械臂；(2)數個面，形成在該側壁上，各適于耦接至處理室；(3)延伸面，形成在該側壁上，以讓主機得以耦接到至少四個全尺寸處理室，同時提供主機的維護進出口。

于本發明第二方式中，是提供用于半導體元件制造的系統。該系統包括一主機，其具有(1)側壁，可界定出中央傳送區，適于容設機械臂；(2)數個面，形成在該側壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)延伸面，形成在該側壁上，以讓主機得以耦接到至少四個全尺寸處理室，同時提供主機的維護進出口。該系統也包括(a)機械臂，位于該主機的中央傳送區內；(b)負載鎖定室，耦接至該數個面的第一個；以及(c)一處理室，耦接至該延伸面。該延伸面適于增加該負載鎖定室(耦接至主機)以及該處理室(耦接至該延伸面)之間的距離。

于本發明第三方式中，是提供用于半導體元件制造的第二主機。該第二主機包括第一傳送區段，其具有(1)第一側壁，可界定出適于容設第一機械臂的第一中央傳送區；(2)數個面，形成在該第一側壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)延伸面，形成在該第一側壁上，以讓該主機得以耦接到至少四個全尺寸處理室，同時提供該主機維護存取。該第二主機也包括耦接至該第一傳送區段的第二傳送區段，且具有(1)第二側壁，可界定適于容設第二機械臂的第二中央傳送區；(2)數個面，形成在該第二側壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)延伸面，形成在該第二側壁上，以讓該主機得以耦接到至少四個全尺寸處理室，同時提供主機的維護進出口。

于本發明第四方式中，是提供用于半導體元件制造的第三主機。該第三主機包括(1)側壁，可界定適于容設機械臂的中央傳送區；(2)數個面，形成在該側壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)間距物，耦接至所述面的至少一個，該間距物適于讓主機得以耦接到至少四個全尺寸處理室，同時提供主機的維護存取。依據此等及其它方式更可提供多種其它實施方式。

本發明其它特征及實施方式在參閱下文詳細說明、權利要求及圖標后更可清楚領會。

附圖說明

圖1為半導體元件制造期間可使用的公知的真空主機的俯視平面圖。

圖2為圖1主機的俯視平面圖，顯示四個耦接至該主機的大處理室。

圖3A為依據本發明的第一例示性主機的俯視平面圖。

圖3B為本發明所提供圖3A主機的第一替代實施例的俯視平面圖。

圖3C為本發明所提供圖3A主機的第二替代實施例的俯視平面圖。

圖4為圖3A的第一例示性主機的俯視平面圖，其具有四個耦接至該主機的大型處理室。

圖5A為本發明所提供第二例示性主機的俯視平面圖。

圖5B為本發明所提供圖5A主機的第一替代實施例的俯視平面圖。

圖5C為本發明所提供圖5A主機的第二替代實施例的俯視平面圖。

圖6為圖5A第二例示性主機的俯視平面圖，其具有五個耦接至該主機的處理室。

圖7A為本發明所提供第三例示性主機的俯視平面圖。

圖7B為本發明所提供圖7A主機的第一替代實施例的俯視平面圖。

圖7C為本發明所提供圖7A主機的第二替代實施例的俯視平面圖。

圖8A為一例示性通過室(pass?through?chamber)的俯視平面圖，其利用本發明一或多個間距物。

圖8B為本發明所提供一例示性延伸通過室的俯視平面圖。

圖9為本發明的一例示性負載鎖定室的俯視平面圖。

主要組件符號說明

100真空主機????101中心傳送處理室區