[發(fā)明專利]一種通過加曝圖形制作掩模板的方法

有效

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• 申請日: 2012-10-11
• 公開（公告）號: CN102890432A
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發(fā)明（設計）人: 李春蘭
• 申請（專利權）人: 深圳清溢光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 云南派特律師事務所 53110
• 代理人: 張怡

技術領域

本發(fā)明屬于掩模板制造技術領域，尤其涉及一種通過加曝圖形制作掩模板的方法。

背景技術

隨著智能手機,平板電腦等便攜式產(chǎn)品的廣泛應用，人們對于高端TFT－LCD產(chǎn)品、LTPS－LCD產(chǎn)品及AM－OLED產(chǎn)品的需求日益增加，對平板顯示產(chǎn)品的關鍵制作材料－掩模板的需求也越來越高，對掩模板圖形制作的均一性和對線條精細度的要求也會逐步提高。

目前掩模板制作的一般工藝流程是：數(shù)據(jù)設計――數(shù)據(jù)曝光格式轉換――原材料投入――曝光――顯影――刻蝕――光刻膠剝離――清洗――測量――檢查――修補――貼膜――包裝――出貨。

對于普通的掩模板產(chǎn)品，在對其曝光時，通常是對掩模板上的圖形只進行一次掃描曝光即可完成。以這種方式對表面光刻膠層不均勻的原材料掩模板曝光時就會發(fā)現(xiàn)有曝不透的現(xiàn)象，這樣生產(chǎn)出來的掩模板的圖形就會不完整或是丟失，進而就達不到客戶的品質要求，以致成了一張沒有使用價值的掩模板。

此外，對于高精度平板電腦等便攜式產(chǎn)品來說，產(chǎn)品線條的精細度是評價一款產(chǎn)品性能的重要指標之一，因而也就會對其關鍵材料——掩模板的線條精度要求高些，所以對要求精密線條圖形區(qū)域加曝也是制作高精度掩模板的一種方法。

發(fā)明內容

本發(fā)明提出一種通過加曝圖形制作掩模板的方法，解決了掩模板邊緣膠厚曝不透的問題，并且可制作精細線條圖形的高精度掩模板。

本發(fā)明的技術方案是這樣實現(xiàn)的：

一種通過加曝圖形制作掩模板的方法，包括以下步驟：

（1）設計數(shù)據(jù)圖形，所述數(shù)據(jù)圖形放置于第一圖層中，再將需要加曝的數(shù)據(jù)圖形置于另外的圖層中；

（2）設置曝光數(shù)據(jù)參數(shù)及曝光格式轉換；

（3）投入掩模材料。優(yōu)選地，掩模材料包括光刻膠膜層，所述光刻膠膜層也可選用其他合適的材料。

（4）開始曝光，采用步驟（1）所述的第一圖層的數(shù)據(jù)圖形進行一次曝光；

（5）采用步驟（1）所述另外圖層中的需要加曝的數(shù)據(jù)圖形進行重復曝光；

（6）顯影、刻蝕；

（7）光刻膠剝離、掩模板清洗、測量、檢查修復、貼膜、包裝出貨。

作為優(yōu)選，所述需要加曝的數(shù)據(jù)圖形靠近掩模板邊緣。

作為優(yōu)選，所述需要加曝的數(shù)據(jù)圖形為高精度圖像。

作為優(yōu)選，所述需要加曝的數(shù)據(jù)圖形包括第二圖形和靠近掩模板邊緣的第一圖形，所述第一圖形置于第二圖層中，所述第二圖形置于第三圖層中。

進一步，將所述第二圖形置于第四圖層中。

作為優(yōu)選，在所述另外的圖層中，對不需要加曝的圖形進行遮蓋。

作為優(yōu)選，在設計加曝的數(shù)據(jù)圖形時，將需要加曝的數(shù)據(jù)圖形原位置復制到另外的圖層中。

作為優(yōu)選，在設計加曝的數(shù)據(jù)圖形時，也可以將需要加曝的數(shù)據(jù)圖形原位置復制，經(jīng)過反效果處理后到另外的圖層中。

作為優(yōu)選，在進行曝光格式參數(shù)設置時，對于放置于另外圖層中的需要加曝的圖形，增加新的曝光參數(shù)設置界面，在新增加的曝光參數(shù)設置界面中對需加曝的圖形進行參數(shù)設置。

作為優(yōu)選，在進行曝光格式參數(shù)設置時，對于需要加曝的圖形，增加若干曝光參數(shù)設置界面，在對應的所述增加的曝光參數(shù)設置界面中，確定需要加曝的圖形區(qū)域的座標位置，并進行曝光參數(shù)設置。

本發(fā)明的有益效果是：（1）通過采用本發(fā)明的二次（或多次）重復曝光的工藝，解決了掩模板邊緣膠厚曝不透的問題；（2）通過采用本發(fā)明的二次（或多次）重復曝光的工藝，可制作精細線條圖形的高精度掩模板。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為掩模板的整體數(shù)據(jù)圖形；

圖2為放置于另一圖層的加曝圖形（字符圖形）；

圖3為放置于另一圖層的加曝圖形（高精度線條圖形）；

圖4為放置于另一圖層的加曝圖形（高精度線條圖形）；

圖5為放置于另一圖層的加曝圖形（字符圖形和高精度線條圖形）；

圖6為經(jīng)過覆蓋的掩模板數(shù)據(jù)圖形；

圖7為通過反效果設計于另一圖層的加曝圖形（字符圖形）。

具體實施方式