[發明專利]一種通過加曝圖形制作掩模板的方法

有效

• 申請號: 201210384701.0
• 申請日: 2012-10-11
• 公開（公告）號: CN102890432A
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發明（設計）人: 李春蘭
• 申請（專利權）人: 深圳清溢光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 云南派特律師事務所 53110
• 代理人: 張怡

1.一種通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于包括以下步驟：

（1）設計數據圖形，所述數據圖形放置于第一圖層中，再將需要加曝的數據圖形置于另外的圖層中；

（2）設置曝光數據參數及曝光格式轉換；

（3）投入掩模材料；

（4）開始曝光，采用步驟（1）所述的第一圖層的數據圖形進行一次曝光；

（5）采用步驟（1）所述另外圖層中的需要加曝的數據圖形進行重復曝光；

（6）顯影、刻蝕；

（7）光刻膠剝離、掩模板清洗、測量、檢查修復、貼膜、包裝出貨。

2.如權利要求1所述的通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于，所述需要加曝的數據圖形靠近掩模板邊緣。

3.如權利要求1所述的通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于，所述需要加曝的數據圖形為高精度圖像。

4.如權利要求1所述的通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于，所述需要加曝的數據圖形包括第二圖形和靠近掩模板邊緣的第一圖形，所述第一圖形置于第二圖層中，所述第二圖形置于第三圖層中。

5.如權利要求4所述的通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于，進一步將所述第二圖形置于第四圖層中。

6.如權利要求1所述的通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于，在所述另外的圖層中，對不需要加曝的圖形進行遮蓋。

7.如權利要求1所述的通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于，在設計加曝的數據圖形時，將需要加曝的數據圖形原位置復制到另外的圖層中。

8.如權利要求1所述的通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于，在設計加曝的數據圖形時，也可以將需要加曝的數據圖形原位置復制，經過反效果處理后到另外的圖層中。

9.如權利要求1所述的通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于，在進行曝光格式參數設置時，對于放置于另外圖層中的需要加曝的圖形，增加新的曝光參數設置界面，在新增加曝光參數設置界面中對需加曝的圖形進行參數設置。

10.如權利要求1所述的通過加曝圖形制作掩模板的方法，其特征在于，在進行曝光格式參數設置時，對于需要加曝的圖形，增加若干曝光參數設置界面，在對應的所述增加的曝光參數設置界面中，確定需要加曝的圖形區域的座標位置，并進行曝光參數設置。