[發(fā)明專利]玻璃板研磨裝置的監(jiān)控方法及監(jiān)控系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210379607.6
• 申請日: 2012-09-29
• 公開（公告）號: CN103029029A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 秋山秀;勝呂昭男
• 申請（專利權(quán)）人: 旭硝子株式會(huì)社
• 主分類號: B24B37/005
• 分類號: B24B37/005
• 代理公司: 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 高培培;車文

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及玻璃板研磨裝置的監(jiān)控方法及監(jiān)控系統(tǒng)。

背景技術(shù)

液晶顯示器、等離子顯示器等所使用的FPD（Flat?Panel?Display：平板顯示器）用的玻璃板如下加工而成，將熔融玻璃成形為板狀，然后，在通過切斷裝置切成規(guī)定的矩形尺寸的玻璃板后，通過倒角裝置的倒角用砂輪對該端面進(jìn)行倒角加工。然后，所述玻璃板通過利用研磨裝置研磨去除表面的微小凹凸或波紋，被制造為滿足FPD用玻璃板所要求的平面度的薄板狀的玻璃板。作為所述玻璃板的尺寸，以縱橫尺寸超過1000mm為主流，其厚度為0.7mm以下。

專利文獻(xiàn)1中所公開的研磨裝置包括：板貼附臺，向張?jiān)O(shè)于膜框的吸附片貼附玻璃板；膜框安裝臺，將膜框安裝于支架；及研磨臺，使安裝有膜框的支架和研磨加工臺相對地靠近，將貼附于所述吸附片的玻璃板的研磨面推向研磨加工臺的研磨墊而進(jìn)行研磨。

所述吸附片由具有自身吸附性的多孔質(zhì)部件構(gòu)成，為了防止吸附于吸附片的玻璃板的非研磨面的干燥或提高吸附片的自身吸附力，玻璃板經(jīng)由液體而吸附于吸附片。在專利文獻(xiàn)2所公開的晶片的研磨方法中，通過使甘油等液體介于晶片的非研磨面和晶片載置用板之間，可以提高晶片的非研磨面和所述載置用板的吸附力。另外，在規(guī)定的涂敷量范圍內(nèi)隨著甘油的涂敷量增多吸附片的吸附力增強(qiáng)，但當(dāng)甘油的涂敷量超過規(guī)定的涂敷量時(shí)吸附力有降低的趨勢。

而且，在將玻璃板載置于吸附片之前，通過相機(jī)等拍攝單元或傳感器等檢測單元來檢查在吸附片的吸附面是否附著有玻璃片、吸附片碎片、研磨工具片及研磨劑等異物。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2004-122351號公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開6-61203號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

在研磨裝置中，希望監(jiān)控玻璃板是否正常吸附于吸附片，但在設(shè)備復(fù)雜的研磨裝置中，難以用目測監(jiān)控。特別是在如專利文獻(xiàn)1所示的研磨裝置那樣，使玻璃板的非研磨面吸附于吸附片的下表面而進(jìn)行研磨的裝置中，設(shè)備復(fù)雜且必須從支架的下方仰視吸附片，因此進(jìn)行目測監(jiān)控非常困難。

本發(fā)明鑒于以上情況而被作出的，其目的在于提供一種能夠監(jiān)控玻璃板相對吸附片的吸附狀態(tài)的玻璃板研磨裝置的監(jiān)控方法及監(jiān)控系統(tǒng)。

首先，對玻璃板相對吸附片的吸附狀態(tài)的異常形態(tài)進(jìn)行說明。

第一異常形態(tài)是由于對吸附片的甘油的涂敷量過多及涂敷量過少而使吸附片的吸附力降低的形態(tài)。

第二異常形態(tài)是兩片以上的玻璃板吸附于吸附片的形態(tài)。該形態(tài)包含在殘留于吸附片的玻璃片吸附新的玻璃板的形態(tài)。

第三異常形態(tài)是吸附片未吸附有玻璃板的形態(tài)。

第四異常形態(tài)是相對于框體玻璃板偏離正規(guī)的位置而吸附于吸附片的形態(tài)。

本發(fā)明著眼于上述第一~第四異常形態(tài)而作出。以下，對本發(fā)明進(jìn)行說明。

本發(fā)明為了完成所述目的，提供一種玻璃板研磨裝置的監(jiān)控方法，包括：液體涂敷工序，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液體；吸附工序，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液體的所述吸附片；拍攝工序，朝所述吸附片照射照明光，對該反射光進(jìn)行拍攝；判定工序，基于拍攝到的圖像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及研磨工序，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。

而且，本發(fā)明為了完成所述目的，提供一種玻璃板研磨裝置的監(jiān)控系統(tǒng)，包括：液體涂敷單元，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液體；吸附單元，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液體的所述吸附片；拍攝單元，朝所述吸附片照射照明光，對該反射光進(jìn)行拍攝；判定單元，基于拍攝到的圖像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及研磨單元，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。

根據(jù)本發(fā)明，在具有液體涂敷工序、吸附工序及研磨工序的玻璃板研磨裝置中，在所述吸附工序和所述研磨工序之間包括拍攝工序和判定工序。所述拍攝工序?qū)乃鑫焦ば蛳蛩鲅心スば蛞苿?dòng)的吸附片進(jìn)行照明，通過拍攝單元對該反射光進(jìn)行拍攝。所述判定工序基于由所述拍攝單元拍攝的圖像來判定玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片。

因此，本發(fā)明能夠監(jiān)控玻璃板相對吸附片的吸附形態(tài)。另外，在研磨裝置配置所述拍攝單元，因而不需要目測監(jiān)控，而且，在設(shè)備復(fù)雜的研磨裝置中也能夠進(jìn)行所述判定。

優(yōu)選地，在本發(fā)明的所述判定工序中，算出所述圖像的亮度的平均值，并且對該平均值和預(yù)先存儲(chǔ)的所述液體的涂敷量為最佳值時(shí)的最佳亮度的范圍進(jìn)行比較，當(dāng)所述平均值處于所述最佳亮度的范圍時(shí)，判定為所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，當(dāng)所述平均值處于最佳亮度的范圍之外時(shí)，判定為所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。