[發明專利]玻璃板研磨裝置的監控方法及監控系統無效
| 申請號: | 201210379607.6 | 申請日: | 2012-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN103029029A | 公開(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發明(設計)人: | 秋山秀;勝呂昭男 | 申請(專利權)人: | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號: | B24B37/005 | 分類號: | B24B37/005 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 高培培;車文 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃板 研磨 裝置 監控 方法 系統 | ||
1.一種玻璃板研磨裝置的監控方法,其特征在于,包括:
液體涂敷工序,向吸附玻璃板的吸附片涂敷液體;
吸附工序,使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液體的所述吸附片;
拍攝工序,朝所述吸附片照射照明光,對該反射光進行拍攝;
判定工序,基于拍攝到的圖像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片;及
研磨工序,研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。
2.根據權利要求1所述的玻璃板研磨裝置的監控方法,其中,
在所述判定工序中,算出所述圖像的亮度的平均值,并且對該平均值和預先存儲的所述液體的涂敷量為最佳值時的最佳亮度的范圍進行比較,當所述平均值處于所述最佳亮度的范圍時,判定為所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片,當所述平均值處于最佳亮度的范圍之外時,判定為所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。
3.根據權利要求1或2所述的玻璃板研磨裝置的監控方法,其中,
在所述判定工序中,算出所述圖像中所包含的白色部分的面積,并且比較該白色面積和預先存儲的基準白色面積,當所述白色面積未達到所述基準白色面積時,判定為一片玻璃板正常地吸附于所述吸附片,當所述白色面積在所述基準白色面積以上時,判定為至少兩片玻璃板吸附于所述吸附片。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的玻璃板研磨裝置的監控方法,其中,
在所述判定工序中,算出所述圖像中所包含的黑色部分的面積,并且比較該黑色面積和預先存儲的基準黑色面積,當所述黑色面積未達到所述基準黑色面積時,判定為所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片,當所述黑色面積在所述基準黑色面積以上時,判定為所述玻璃板未吸附于所述吸附片。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的玻璃板研磨裝置的監控方法,其中,
在所述吸附片吸附有框體,所述框體配置在吸附保持于所述吸附片的所述玻璃板的周圍,并和所述玻璃板一同抵接于所述研磨工序中的研磨工具,
在所述判定工序中,基于所述圖像算出所述玻璃板和所述框體的間隔,比較算出的間隔和預先存儲的基準間隔,當所述算出的間隔在所述基準間隔以下或在所述基準間隔以上時,判定為所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。
6.根據權利要求1~5中任一項所述的玻璃板研磨裝置的監控方法,其中,
在所述吸附工序中,所述玻璃板以所述非研磨面為上表面而吸附于所述吸附片,
在所述拍攝工序中,所述吸附片被從該吸附片的下方照射所述照明光。
7.一種玻璃板研磨裝置的監控系統,其特征在于,包括:
液體涂敷單元,向吸附玻璃板的吸附片涂敷液體;
吸附單元,使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液體的所述吸附片;
拍攝單元,朝所述吸附片照射照明光,對該反射光進行拍攝;
判定單元,基于拍攝到的圖像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片;及
研磨單元,研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。
8.根據權利要求7所述的玻璃板研磨裝置的監控系統,其中,
所述判定單元算出所述圖像的亮度的平均值,并且對該平均值和預先存儲的所述液體的涂敷量為最佳值時的最佳亮度的范圍進行比較,當所述平均值處于所述最佳亮度的范圍時,判定為所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片,當所述平均值處于最佳亮度的范圍之外時,判定為所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。
9.根據權利要求7或8所述的玻璃板研磨裝置的監控系統,其中,
所述判定單元算出所述圖像中所包含的白色部分的面積,并且比較該白色面積和預先存儲的基準白色面積,當所述白色面積未達到所述基準白色面積時,判定為一片玻璃板正常地吸附于所述吸附片,當所述白色面積在所述基準白色面積以上時,判定為至少兩片玻璃板吸附于所述吸附片。
10.根據權利要求7~9中任一項所述的玻璃板研磨裝置的監控系統,其中,
所述判定單元算出所述圖像中所包含的黑色部分的面積,并且比較該黑色面積和預先存儲的基準黑色面積,當所述黑色面積未達到所述基準黑色面積時,判定為所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片,當所述黑色面積在所述基準黑色面積以上時,判定為所述玻璃板未吸附于所述吸附片。
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