[發明專利]用于潤濕扁平基底的裝置和具有這種裝置的設備有效
| 申請號: | 201210375500.4 | 申請日: | 2012-09-01 |
| 公開(公告)號: | CN103028520B | 公開(公告)日: | 2017-03-01 |
| 發明(設計)人: | J·蘭普雷希特;M·雷澤;K·魏澤;H·哈弗坎普;M·尼塔默 | 申請(專利權)人: | 吉布爾·施密德有限責任公司 |
| 主分類號: | B05C1/02 | 分類號: | B05C1/02 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 周志明,楊國治 |
| 地址: | 德國弗羅*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 潤濕 扁平 基底 裝置 具有 這種 設備 | ||
技術領域
本發明涉及用于潤濕扁平基底或其基底底面的裝置以及具有至少一個這種裝置的設備。
背景技術
例如由DE102005062528A1已知,例如為了刻蝕過程,用流體將電路板或太陽能電池晶片形式的扁平基底的底面潤濕。為了用流體進行潤濕,輸送滾輪在滾動時其下部區域處于流體中,于是流體在輸送滾輪旋轉時保持附著在所述區域上,進而涂布到位于上面的基底底面上。但這一方面意味著可以根據基底底面支撐在滾輪上的支撐力略微地改變流體涂布的方式,另一方面也意味著可能會出現并非所愿的效應,比如基底底面上的稍厚的液體膜受到擠壓。
按照由WO2008/048259A2已知的方法,利用腔室中的凸形地向上拱曲的流體月牙彎,將流體涂布到基底的基底底面上,所述基底被輸送經過該流體。由此可以實現用流體采用本來無接觸的方式將基底底面潤濕。
發明內容
本發明的目的在于,提出開頭部分所述的裝置以及帶有至少一個這種裝置的設備,借此能避免現有技術的問題,尤其是能實現有利地潤濕基底或其基底底面。
采用具有權利要求1的特征的裝置以及具有權利要求14的特征的設備,即可實現該目的。其它權利要求所述內容均為本發明的有利的以及優選的設計,下面對其予以詳述。在這里,有些下述特征僅針對裝置或者僅針對設備來介紹。但這些特征應與此無關地既可以適用于裝置,又可以適用于相應的設備。權利要求書的內容明確地被援引加入成說明書的內容。
規定,所述裝置具有多個流體輸出件,它們各有一個用于流體的輸出開口,輸出開口向上朝向,且一直伸到輸送面之前很近處。這些輸出開口具有周向邊緣,以便基于表面張力形成凸形拱曲的流體儲備。此外規定,流體從下面輸送至流體輸出件或輸出開口。
根據本發明,設置有引自流體儲備的流體流出件,該流體流出件設置在周向邊緣的下方,或者,流體經由周向邊緣下方的流體流出件從流體儲備流出。流體流出件可以有利地位于該周向邊緣下方數毫米處。在流體輸出件周圍設置有收集下凹或收集裝置,其通過流出開口與流出槽或流出通道連接。由此可以例如為了重新再次應用而排出或去除流體。此外設置有引入到用于流體的分布通道中的流入道,其中該分布通道引導液體地與設置于其上方的流體輸出件連接,以便輸送流體。該裝置是可獨立操作的基本上封閉的結構單元,它尤其可以作為整體裝入到前述設備中??梢蕴貏e有利地將多個這種結構單元彼此平行地且間隔開地設置在設備中。
這種裝置的優點在于,一方面可以用流體基本上無接觸地將基底底面潤濕。另外由此可以把流入道或流體輸入件整合到流體輸出件或輸出開口上,同時在一個結構單元中使流體流出或輸出,在所述輸出開口上也有一種由于表面張力而凸形拱曲的流體儲備的月牙彎。由于該結構單元基本上封閉地構造,還可以減少或者甚至避免相應揮發性的可能是化學腐蝕性的組分流體氣化排出。由此一方面使得裝置或設備周圍的氣氛保持干凈,這對工作條件有利。另外還可以在這種設備上設置有氣體吸出件,但該吸出件可以構造得比較薄弱,且過濾出的化學腐蝕性組成必須比較少。最后,也可以在整體上明顯減少化學藥劑的耗用量,這在化學藥劑昂貴的情況下大大地節省了成本。
按照本發明的一種有利設計,沿著該裝置特別是成一條直線地設置有多個流體輸出件或輸出噴嘴。在此可以給至少一對流體輸出件分別彼此靠近地設置輸出開口,尤其是直接并排地設置,更確切地說,還在前述縱向上并排地設置。特別有利的是,在該裝置的外端上給各個流體輸出件分別設置一個輸出開口。因而前述多對流體輸出件的間距可以為數毫米,最好小于2cm,而與此同時,兩個流體輸出件之間的間距可以處于數厘米的范圍內,最好為10cm-20cm。如此地分布流體輸出件或其輸出開口,就可以用流體將基底底面的條狀區域潤濕。
根據本發明的另一設計,流體輸出件可以向上突出于其它裝置或其基本上平面的頂面數厘米。突出距離例如可以為2cm-10cm,使得基底底面高出裝置一段適宜的距離,而不會造成負面影響。同時,流體輸出件無需太高,否則就會不必要地提高構造上的代價。
流體輸出件有利地為管式結構,且向上特別是垂直地突出于裝置的頂面。在裝置的該頂面上有利地圍繞流體輸出件設置一些前述收集裝置或收集下凹。它們可以在頂面下方具有數毫米的深度,使得它們在一定程度上形成小型收集盆,這些收集盆圍繞流體輸出件布置,且能收集從流體輸出件輸出的特別是來自流體流出件的流體以便排出。也可以給盆狀收集裝置構造環繞的壁作為一種盆邊緣,以便能收集從輸出開口輸出的流體。由于要收集的流體量通常不是很大,所以收集下凹具有小的深度或者盆狀收集裝置具有小的邊緣高度就足夠了。
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