[發明專利]用于潤濕扁平基底的裝置和具有這種裝置的設備

有效

• 申請號: 201210375500.4
• 申請日: 2012-09-01
• 公開（公告）號: CN103028520B
• 公開（公告）日: 2017-03-01
• 發明（設計）人: J·蘭普雷希特;M·雷澤;K·魏澤;H·哈弗坎普;M·尼塔默
• 申請（專利權）人: 吉布爾·施密德有限責任公司
• 主分類號: B05C1/02
• 分類號: B05C1/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 周志明,楊國治

1.一種用于潤濕扁平基底的裝置，其中，當基底在輸送面上沿著輸送軌移動時，利用流體來潤濕基底底面，其中，所述裝置具有多個流體輸出件，所述流體輸出件各有一個用于流體的輸出開口，輸出開口向上朝向，且一直伸到輸送面之前很近處，其中，所述輸出開口具有周向邊緣，以便基于表面張力形成凸形拱曲的流體儲備，其中規定，流體從下面輸送至流體輸出件或輸出開口，其特征在于，在周向邊緣的下方優選在周向邊緣下方數毫米處設置有引自流體儲備的流體流出件，在流體輸出件周圍設置有收集下凹，收集下凹通過流出開口與流出槽連接，其中設置有引入到用于流體的分布通道中的流入道，該分布通道引導液體地與設置于其上方的流體輸出件連接，以便輸送流體，其中該裝置是可獨立操作的基本上封閉的結構單元。

2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，沿著該裝置特別是成一條直線地設置有多個流體輸出件或輸出噴嘴，其中優選給至少一對彼此靠近地尤其是直接并排地布置的流體輸出件設置有輸出開口，優選在該裝置的外端上給各個流體輸出件分別設置一個輸出開口。

3.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，流體輸出件向上突出于其它裝置或其基本上平面的頂面數厘米，尤其是2cm-10cm。

4.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，流體輸出件為管式結構，且向上突出于裝置的頂面，其中優選在該頂面上圍繞流體輸出件設置前述收集下凹，所述收集下凹在頂面下方具有數毫米的深度。

5.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，在從下面引入到流體輸出件中的流體輸入件內設置有節流件，該節流件用于限制輸入的流體量，其中優選節流件的通流截面大致等于流體流出件的通流截面。

6.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，流體流出件斜向下朝向，其中優選給每個流體輸出件設置一個唯一的流體流出件。

7.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，輸出開口在內緣上具有傾斜的內壁，且具有向上增大的直徑。

8.如權利要求7所述的裝置，其特征在于，輸出開口為圓形結構，其中該輸出開口尤其在內壁上是圓錐形的。

9.如權利要求1-7中任一項所述的裝置，其特征在于，輸出開口又長又窄，尤其在裝置的縱向延展方向上具有縱向長度。

10.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，輸出開口在周向邊緣上朝向內側具有尖銳的邊，該邊優選沿著平行于輸送面的平面伸展。

11.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，在裝置殼體內設置有把流體輸送至輸出開口的輸入件連同分布通道在內和流體流出件，特別是設置有一個中央的流入道和/或一個唯一的流出道，其中優選在裝置殼體中在上面設置用于待輸入的流體的分布通道，進而使該分布通道直接與從下面引入到流體輸出件中的流體輸入件連接。

12.如權利要求11所述的裝置，其特征在于，在分布通道的下方設置有基本上連續的流出槽，流出開口伸入到該流出槽中，流出槽具有一個中央的流出道，其中優選流出槽或者至少其底部相對于水平線傾斜地伸展，流出道設置在流出槽中的最低點。

13.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，用于來自收集下凹的流體的流出開口靠近裝置的或裝置殼體的縱外側面布置，且經過分布通道。

14.一種用于在輸送面中利用輸送軌來處理扁平基底的設備，其中沿著輸送軌在基本橫向于該輸送軌的方向上設置至少一個根據前述權利要求中任一項的裝置，在該裝置的前面和后面設置有用于形成輸送軌的輸送滾輪，其中所述輸送滾輪無處理功能或潤濕功能。

15.如權利要求14所述的設備，其特征在于，在該設備上特別是在輸送軌的下方設置有氣體吸出件。

16.如權利要求14或15所述的設備，其特征在于，沿著輸送軌設置有多個根據權利要求1-13中任一項的裝置，其中優選在每個裝置的前面和后面都設置有輸送滾輪。