[發(fā)明專利]一種基于SBR與PO技術(shù)的強(qiáng)散射中心計算方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210369967.8
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN103713284A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 閆華;董純柱;王超
• 申請（專利權(quán)）人: 中國航天科工集團(tuán)第二研究院二O七所
• 主分類號: G01S13/06
• 分類號: G01S13/06;G01S7/40
• 代理公司: 核工業(yè)專利中心 11007
• 代理人: 羅立冬

1.一種基于SBR與PO技術(shù)的強(qiáng)散射中心計算方法，通過射線追蹤和物理光學(xué)進(jìn)行熱點計算，獲得能給出目標(biāo)表面每個面元的RCS貢獻(xiàn)的分布圖，通過比較熱點圖定位強(qiáng)散射部位。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于SBR與PO技術(shù)的強(qiáng)散射中心計算方法，其特征在于：具體可分為如下步驟：

步驟S1：建立目標(biāo)的三角面元模型；

步驟S2：計算一次、二次、三次散射的熱點圖；

步驟S3：確定強(qiáng)散射部位。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于SBR與PO技術(shù)的強(qiáng)散射中心計算方法，其特征在于：所述步驟步驟S1中，在已知目標(biāo)幾何模型的情況下，進(jìn)行網(wǎng)格剖分，獲得導(dǎo)體目標(biāo)的三角表面元模型。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于SBR與PO技術(shù)的強(qiáng)散射中心計算方法，其特征在于：所述步驟S2中，對于一次散射貢獻(xiàn)，采用Gordon公式獲得，對于二次和三次散射貢獻(xiàn)采用幾何光學(xué)加物理光學(xué)的方法，即在多次散射中，除了最后一次用物理光學(xué)方法來計算，前幾次的散射采用幾何光學(xué)來計算。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種基于SBR與PO技術(shù)的強(qiáng)散射中心計算方法，其特征在于：所述步驟S3中，首先選擇一個閾值，當(dāng)熱點圖中存在的亮點超過閾值，則確定該亮點為強(qiáng)散射中心；通過已確定的強(qiáng)散射中心的位置獲得目標(biāo)表面引起強(qiáng)散射的部位；再通過對三次散射熱點圖、二次散射熱點圖、一次散射熱點圖之間的比較確定強(qiáng)散射中心的機(jī)理類型。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種基于SBR與PO技術(shù)的強(qiáng)散射中心計算方法，其特征在于：所述步驟S2中，在計算二次和三次散射貢獻(xiàn)時，邊緣貢獻(xiàn)采用等效邊緣電流法來計算，中間反射利用Snell公式來追蹤射線的路徑；在獲得每個面元的一次、二次、三次散射貢獻(xiàn)后，利用OpenGL將其數(shù)值用顏色表示在目標(biāo)模型表面所對應(yīng)的三角面元上表示目標(biāo)表面不同部位對總散射的貢獻(xiàn)程度。