[發明專利]磁記錄介質用玻璃基板

有效

• 申請號: 201210369825.1
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN102930874A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 吉宗大介;大塚晴彥
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;G11B5/73
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 王海川;穆德駿

技術領域

本發明涉及磁記錄介質用玻璃基板。

背景技術

作為磁盤記錄裝置等中使用的磁記錄介質用基板，一直使用鋁合金基板。但是，伴隨著近年來高密度記錄化的要求，比鋁合金基板硬且平坦性和平滑性優良的玻璃基板已成為主流。

而且，伴隨著近年來磁盤的高密度記錄化，為了有效利用玻璃基板的主平面的面積，開始使磁頭通過至玻璃基板的端部。另外，為了將大容量的信息快速地記錄到磁盤中并進行重放，也正在進行使磁盤的轉速高速化的研究。

在使磁頭通過至玻璃基板的端部或者使磁盤的轉速高速化的情況下，當磁記錄介質用玻璃基板的端面部、主平面的形狀不整齊時，可能會擾亂磁頭的上浮姿態。磁頭的上浮姿態被擾亂時，磁頭可能會與磁盤接觸而產生故障，因而成為問題。因此，對磁記錄介質用玻璃基板日益要求高加工精度。

磁記錄介質用玻璃基板通過在經過形狀賦予工序、倒角加工工序后對玻璃基板的端面(內外周面)和主平面進行研磨來加工成預定形狀。

作為對玻璃基板的主平面進行研磨的方法，首先，在設置于能夠收容多個玻璃基板的托板(主平面研磨用夾具)上的玻璃基板保持孔中設置玻璃基板。然后，在將設置有玻璃基板的托板夾持在兩片研磨墊之間的狀態下，一邊向玻璃基板與研磨墊之間供給研磨劑一邊移動托板，從而對玻璃基板的主平面進行研磨(例如專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2009-214219號公報

發明內容

發明所要解決的問題

但是，以往的玻璃基板中，未對端面部分的表面粗糙度Ra在整個圓周面上是否均勻進行評價，因此，有時存在局部表面粗糙度Ra較高的部分，因而成為問題。另外，有時會形成主平面的平行度不充分、即在同一玻璃基板內板厚分布寬度較大的玻璃基板，從而在加工精度、成品率、磁記錄介質用玻璃基板的特性方面存在問題。

鑒于上述現有技術存在的問題，本發明的目的在于提供一種磁記錄介質用玻璃基板，當在多個位置處測定外周端面的側表面部的表面粗糙度Ra時，其最大值、標準差在預定的范圍內，并且進行主平面研磨時平行度優良。而且，本發明的目的在于，通過使用平行度優良的磁記錄介質用玻璃基板形成磁盤并制成磁盤記錄裝置來抑制磁頭的上浮姿態被擾亂、磁盤旋轉時振動增大等問題。

用于解決問題的手段

為了解決上述問題，本發明提供一種磁記錄介質用玻璃基板，具有一對主平面、外周端面和內周端面，其特征在于，所述外周端面具有外周側表面部和外周倒角部，在所述外周端面上，在以所述磁記錄介質用玻璃基板的圓心角計間隔15度而設置的總計24個外周端面測定位置處測定表面粗糙度Ra時，所述外周側表面部的表面粗糙度Ra的最大值為0.5μm以下，且所述外周側表面部的表面粗糙度Ra的標準差為0.2μm以下。

發明效果

本發明的磁記錄介質用玻璃基板在外周面的多個位置處測定外周側表面部的表面粗糙度(算術平均粗糙度)Ra時，表面粗糙度Ra在預定的范圍內。另外，表面粗糙度Ra的標準差也在預定的范圍內。因此，外周側表面部的圓周面上不存在局部表面粗糙度Ra高的部位，從而形成在整個外周側表面部具有高平滑度的玻璃基板。另外，能夠制成在進行主平面研磨時平行度良好的磁記錄介質用玻璃基板。

附圖說明

圖1是本發明的磁記錄介質用玻璃基板的截面立體圖。

圖2是本發明的實施方式中的外周端面測定位置和內周端面測定位置的說明圖。

圖3是本發明的實施方式中的主平面用研磨裝置和托板說明圖。

標號說明

10?磁記錄介質用玻璃基板

12?外周端面

120?外周側表面部

121?外周倒角部

13?內周端面

130?內周側表面部

131?內周倒角部

具體實施方式

以下，參考附圖對用于實施本發明的方式進行說明，但本發明并不受下述實施方式的限制，在不脫離本發明的范圍的情況下可以對下述實施方式進行各種變形和替換。

如圖1所示，磁記錄介質用玻璃基板10具有在中央部具有中心相同的圓孔部的圓盤形狀。

另外，玻璃基板的上下表面為主平面11。圖1中，A1和A6表示磁記錄介質用玻璃基板的外徑側區域的板厚，A2和A5表示磁記錄介質用玻璃基板的中間區域的板厚，A3和A4表示磁記錄介質用玻璃基板的內徑側區域的板厚。