[發明專利]磁記錄介質用玻璃基板有效
| 申請號： | 201210369825.1 | 申請日： | 2012-09-28 |
| 公開（公告）號： | CN102930874A | 公開（公告）日： | 2013-02-13 |
| 發明（設計）人： | 吉宗大介;大塚晴彥 | 申請（專利權）人： | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84;G11B5/73 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德駿 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 記錄 介質 玻璃 | ||
1.一種磁記錄介質用玻璃基板，具有一對主平面、外周端面和內周端面，其特征在于，
所述外周端面具有外周側表面部和外周倒角部，
在所述外周端面上，在以所述磁記錄介質用玻璃基板的圓心角計間隔15度而設置的總計24個外周端面測定位置處測定表面粗糙度Ra時，
所述外周側表面部的表面粗糙度Ra的最大值為0.5μm以下，且
所述外周側表面部的表面粗糙度Ra的標準差為0.2μm以下。
2.如權利要求1所述的磁記錄介質用玻璃基板，其特征在于，兩個相鄰的外周端面測定位置處的所述外周側表面部的表面粗糙度Ra的差為0.3μm以下。
3.如權利要求1或2所述的磁記錄介質用玻璃基板，其特征在于，
所述外周倒角部的表面粗糙度Ra的最大值為0.5μm以下，
所述外周倒角部的表面粗糙度Ra的標準差為0.2μm以下，且
兩個相鄰的外周端面測定位置處的所述外周倒角部的表面粗糙度Ra的差為0.3μm以下。
4.如權利要求1~3中任一項所述的磁記錄介質用玻璃基板，其特征在于，
所述內周端面具有內周側表面部和內周倒角部，
在所述內周端面上，在以所述磁記錄介質用玻璃基板的圓心角計間隔15度而設置的總計24個內周端面測定位置處測定表面粗糙度Ra時，
所述內周側表面部的表面粗糙度Ra的最大值和所述內周倒角部的表面粗糙度Ra的最大值為0.5μm以下，
所述內周側表面部的表面粗糙度Ra的標準差和所述內周倒角部的表面粗糙度Ra的標準差為0.2μm以下，
兩個相鄰的內周端面測定位置處的所述內周側表面部的表面粗糙度Ra的差和所述內周倒角部的表面粗糙度Ra的差為0.3μm以下。
5.如權利要求1~4中任一項所述的磁記錄介質用玻璃基板，其特征在于，在所述磁記錄介質用玻璃基板的表面上形成具有磁性層的多層膜時，所述多層膜的膜剝落發生概率為0.7%以下。
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