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[發(fā)明專利]一種晶體硅\非晶硅雙節(jié)雙面電池及其制造方法無效

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201210368965.7 申請日: 2012-09-27
公開(公告)號: CN102903780A 公開(公告)日: 2013-01-30
發(fā)明(設計)人: 高艷濤;姜慶堂;邢國強;陶龍忠;張斌;何恬 申請(專利權(quán))人: 奧特斯維能源(太倉)有限公司
主分類號: H01L31/0687 分類號: H01L31/0687;H01L31/0376;H01L31/18;H01L31/20
代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 215434 江蘇省蘇州*** 國省代碼: 江蘇;32
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 晶體 非晶硅雙節(jié) 雙面 電池 及其 制造 方法
【說明書】:

技術領域

發(fā)明涉及光伏領域,具體是一種太陽能電池結(jié)構(gòu)及其制造方法。

背景技術

目前,與國外先進電池制備技術相比,我國晶硅太陽電池制備技術還是相對落后,基本流程由在P型硅片上以制絨、擴散、刻蝕、沉積減反膜、絲網(wǎng)印刷方法制造太陽電池。

?2010年以來,太陽電池片的銷售從賣方市場到買方市場,政務補貼大幅削減,使得電池片得制造商努力降低自己的生產(chǎn)成本,而提高電池片的效率就是有效的途徑,不僅降低了每瓦的生產(chǎn)成本,并且銷售得市場更大;目前高效電池的研發(fā)集中在背面鈍化,細柵印刷,雙面電池等,這些電池的制備和傳統(tǒng)電池的制備工藝兼容和接近,都是單節(jié)電池,不能充分的利用太陽電池的光譜,效率的提高受到了限制。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明目的:是針對現(xiàn)有技術存在的不足,提供一種晶體硅/非晶硅雙節(jié)雙面電池及其制造方法。

技術方案:為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種晶體硅/非晶硅雙節(jié)電池,包括:?N型硅襯底、非晶硅I層、微晶硅P層、非晶硅N層、微晶硅N層、非晶硅本征層、非晶硅P層、透明導電電極、電池的正極和電池的負極;所述電池從上而下依次為:電池的正極、透明導電電極、非晶硅P層、非晶硅本征層、微晶硅N層、微晶硅P層、非晶硅I層、N型硅襯底、非晶硅I層、非晶硅N層、透明導電電極、電池的負極。

本發(fā)明在N型半導體的前后表面制備非晶硅?I層,背表面制備非晶硅N層,前表面制備微晶硅P?層,形成疊成電池的下電池-異質(zhì)結(jié)電池;同時下電池的微晶硅P和上電池的微晶硅N形成良好的隧穿節(jié);此疊成電池的上電池是NIP結(jié)構(gòu)的非晶硅電池;并且雙面制備透明導電極和銀電極。

本發(fā)明所述的一種晶體硅/非晶硅雙節(jié)電池的制造方法,具體步驟如下????

(1)對N型單晶硅半導體襯底表面絨面化并進行化學清洗;

表面絨面化的目的是增加太陽光在表面的折射次數(shù),增加光線在硅襯底中的光程,提高太陽光的利用率。單晶硅半導體通常在在堿溶液(如氫氧化鈉溶液和氫氧化鉀溶液)進行表面絨面化,是形成由金字塔形狀的絨面。同時絨面給前薄膜PIN電池提供內(nèi)反射,提高薄膜電池的電流密度;

化學清洗,化學清洗一般在稀鹽酸和氫氟酸中進行,目的是去除表面的雜質(zhì),為后面的沉積本征非晶硅提供準備;

(2)在N型硅襯底兩面沉積非晶硅I層;

非晶硅I層的主要作用是鈍化N型晶體硅的表面;

(3)沉積非晶硅N層;

在N型硅襯底的下表面沉積非晶硅N層,主要作用是形成異質(zhì)結(jié),同時非晶硅致密度高,可以保護電池的內(nèi)部不受水氣的影響;

(4)沉積微晶硅P層;

在N型硅襯底的上面沉積微晶硅P層,主要作用是形成異質(zhì)結(jié),同時微晶硅P和后來的微晶硅N形成良好的隧穿節(jié),有利于載流子的通過;

(5)沉積前電池的微晶硅N層;

在微晶硅P層上沉積前電池的微晶硅N層,一方面它是前電池的構(gòu)成部分,另一方面是和前面的微晶硅P形成良好的隧穿節(jié),有利于載流子的通過;

(6)沉積前電池的本征非晶硅I層;

在微晶硅N的上面采用PECVD的方法沉積前電池的非晶硅I層,它是前電池有源層;

(7)沉積前電池的非晶硅P層;

在非晶硅的I?層的沉積非晶硅P層,它是前電池的正極;

(8)雙面制備透明導電電極;

透明導電池可以采用濺射或者金屬氧化物化學沉積(MOCVD)的方法制備,主要作用是收集電池的載流子;

(9)制備銀電極;

銀電極的主要作用是把太陽電池的電流收集起來,導出電池。

本發(fā)明中N型硅片的電阻率為:0.3???cm?-6???cm?;沉積在N型硅片上的非晶硅I層的厚度為:5-30nm;非晶硅N和微晶硅的厚度為10nm-30nm;微晶硅的N的光敏性為1-10,電導率為1-10S/cm;微晶硅P敏性為1-10,電導率在0.1-10S/cm;非晶硅I層的光敏性約為105;前電池(非晶硅PIN電池)的I層的厚度在300nm-2000nm。

有益效果:本發(fā)明所述的一種晶體硅/非晶硅雙節(jié)電池,具有以下優(yōu)點:

1.??????本發(fā)明充分利用太陽的光譜,同時可以利用電池背面反射回來的光發(fā)電,制備出了高效的太陽電池;

2.本發(fā)明所述制造方法的整個過程中無高溫過程,最大限度的提高晶體硅的有效少子壽命,提高電池的轉(zhuǎn)化效率;?

3.本發(fā)明所述方法整個制造過程采用薄膜電池的制備工藝和設備,制造成本較低。

附圖說明

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