[發(fā)明專利]用于顯示裝置的基板及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210367213.9 | 申請(qǐng)日: | 2012-09-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103035567A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金倫吾;林鐘千;劉宰顯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 樂(lè)金顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/77 | 分類號(hào): | H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 呂俊剛;劉久亮 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于顯示裝置的基板,更具體地,涉及一種用于識(shí)別在用于顯示裝置的基板上形成的精細(xì)圖案的移位程度(shift?level)的方法。
背景技術(shù)
作為用于代替作為早期的顯示裝置的陰極射線管的顯示裝置,液晶顯示裝置、等離子顯示面板和有機(jī)發(fā)光顯示裝置已被開(kāi)發(fā)。
通過(guò)在基板上形成諸如薄膜晶體管之類的各種精細(xì)圖案來(lái)制造顯示裝置,并且各種測(cè)試工藝被執(zhí)行,以確定在顯示裝置的制造過(guò)程期間或者在完成了制造過(guò)程之后在顯示裝置中是否存在缺陷。
作為顯示裝置的測(cè)試工藝之一,提供了一種用于識(shí)別基板上形成的精細(xì)圖案的移位程度的處理。
以下,將參照附圖描述根據(jù)相關(guān)技術(shù)的用于識(shí)別在用于顯示裝置的基板上形成的精細(xì)圖案的移位程度的方法。
圖1A和圖1B是示出根據(jù)相關(guān)技術(shù)的用于識(shí)別精細(xì)圖案的移位程度的方法的平面圖。
在描述詳細(xì)的工藝之前,將參照?qǐng)D1A和圖1B簡(jiǎn)要描述整個(gè)基板的布局。可在基板1上形成多個(gè)有源區(qū)域10(例如,兩個(gè)有源區(qū)域10)。各個(gè)有源區(qū)域通過(guò)劃線工藝被切割,然后構(gòu)成顯示裝置的面板。
構(gòu)成顯示裝置的面板的多個(gè)有源區(qū)域10中的每一個(gè)均設(shè)置有各種圖案11和12,并且在所述多個(gè)有源區(qū)域10的外面形成交疊圖案21和22,以識(shí)別圖案11和12的移位程度。
以下,將更詳細(xì)地描述每一工藝。
首先,如圖1A所示,第一圖案11形成在基板1的有源區(qū)域10上,同時(shí),第一交疊圖案21形成在有源區(qū)域10之外。
第一圖案11的示例可包括以程度方向設(shè)置的選通線,第一交疊圖案21可形成為例如正方形結(jié)構(gòu)。
可通過(guò)諸如光刻之類的圖案形成工藝形成第一圖案11和第一交疊圖案21。在這種情況下,可通過(guò)使用與第一圖案11和第一交疊圖案21相應(yīng)的第一掩膜圖案同時(shí)形成第一圖案11和第一交疊圖案21。
接著,如圖1B所示,在基板1的有源區(qū)域10上形成第二圖案12,并同時(shí)在有源區(qū)域10的外部形成第二交疊圖案22。
第二圖案12的示例可包括沿垂直方向設(shè)置的數(shù)據(jù)線,第二交疊圖案22可形成為例如在第一交疊圖案21內(nèi)設(shè)置的正方形結(jié)構(gòu)。
可通過(guò)諸如光刻之類的圖案形成工藝形成第二圖案12和第二交疊圖案22。在這種情況下,可通過(guò)使用與第二圖案12和第二交疊圖案22相應(yīng)的第二掩膜圖案同時(shí)形成第二圖案12和第二交疊圖案22。
根據(jù)前面提到的相關(guān)技術(shù)方法,通過(guò)利用形成在有源區(qū)域10的外部的第一交疊圖案21和第二交疊圖案22來(lái)識(shí)別第一圖案11和第二圖案12的移位程度。
換句話講,由于同時(shí)通過(guò)使用第一掩膜圖案形成第一圖案11和第一交疊圖案21,所以如果發(fā)生了諸如第一掩膜圖案的未對(duì)準(zhǔn)之類的工藝誤差,則第一圖案11和第一交疊圖案21可以以相同程度移位。
另外,由于同時(shí)通過(guò)使用第二掩膜圖案形成第二圖案12和第二交疊圖案22,所以如果發(fā)生了諸如第二掩膜圖案的未對(duì)準(zhǔn)的工藝誤差,則第二圖案12和第二交疊圖案22可以以相同程度移位。
由于第一圖案11和第二圖案12精細(xì)地形成在有源區(qū)域10內(nèi),所以不容易識(shí)別第一圖案11和第二圖案12的移位程度。因此,通過(guò)第一交疊圖案21的移位程度來(lái)識(shí)別第一圖案11的移位程度,并通過(guò)第二交疊圖案22的移位程度來(lái)識(shí)別第二圖案12的移位程度。
然而,上面提到的相關(guān)技術(shù)方法具有如下問(wèn)題。
根據(jù)相關(guān)技術(shù)方法,如果發(fā)生了工藝誤差,則認(rèn)為第一圖案11的移位程度與第一交疊圖案21的移位程度相同,以及第二圖案12的移位程度與第二交疊圖案22的移位程度相同。然而,第一圖案11的移位程度實(shí)際上與第一交疊圖案21的移位程度不相同,第二圖案12的移位程度實(shí)際上與第二交疊圖案22的移位程度不相同。
換句話講,即使因?yàn)榈谝唤化B圖案21和第二交疊圖案22之間沒(méi)有發(fā)生移位而確定第一圖案11和第二圖案12被正確地形成,但可能通過(guò)后面的精確的測(cè)試工藝確定第一圖案11和第二圖案12沒(méi)有被正確地形成。
為此,如果使用第一交疊圖案21和第二交疊圖案22的移位程度來(lái)確定第一圖案11和第二圖案12的移位程度,則在確定所述移位程度中可能出現(xiàn)誤差。
另外,根據(jù)相關(guān)技術(shù)方法,第一交疊圖案21和第二交疊圖案22形成在構(gòu)成顯示面板的面板的有源區(qū)域10的外部。因此,由于在劃線工藝之后在面板上不存在第一交疊圖案21和第二交疊圖案22,所以出現(xiàn)了在面板的狀態(tài)下不能使用第一交疊圖案21和第二交疊圖案22的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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