[發(fā)明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法及磁盤的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210366633.5
• 申請(qǐng)日: 2012-09-28
• 公開（公告）號(hào): CN103035256A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山口智行;飯泉京介
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G11B5/84
• 分類號(hào): G11B5/84;G11B5/73;G11B5/62
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 吳宗頤

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用作計(jì)算機(jī)等的記錄介質(zhì)的磁盤用玻璃基板的制造方法及磁盤的制造方法。

背景技術(shù)

隨著信息化技術(shù)的高度化，信息記錄技術(shù)、特別是磁記錄技術(shù)正在顯著進(jìn)步。對(duì)用于磁記錄介質(zhì)之一的HDD（硬盤驅(qū)動(dòng)器）等的磁盤來說，正在持續(xù)進(jìn)行快速的小型化、薄片化、記錄密度的增加及存取速度的高速化。在HDD中，使在圓盤狀的基板上具有磁性層的磁盤高速旋轉(zhuǎn)，使磁頭在該磁盤上浮起飛行，與此同時(shí)進(jìn)行記錄和再生。

由于伴隨存取速度的高速化，磁盤的旋轉(zhuǎn)速度也變快，因而對(duì)磁盤來說要求更高的基板強(qiáng)度。另外，隨著記錄密度的增加，磁頭也從薄膜磁頭向磁阻磁頭（MR磁頭）、乃至巨磁阻磁頭（GMR磁頭）發(fā)展，磁頭自磁盤的浮起量逐漸變窄至5nm左右。因此，當(dāng)磁盤面上具有凹凸形狀時(shí)，有時(shí)會(huì)出現(xiàn)磁頭碰撞磁盤所致的破碎損害、和/或由空氣的絕熱壓縮或磁頭和磁盤的接觸導(dǎo)致加熱而出現(xiàn)讀取錯(cuò)誤的熱粗糙（thermal?asperity）損害。為了抑制這種對(duì)磁頭產(chǎn)生的損害，將磁盤的主表面預(yù)先加工成極平滑的表面變得極為重要。

因而目前，作為磁盤用的基板，逐漸使用玻璃基板代替以往的鋁基板。這是因?yàn)椋c由作為軟質(zhì)材料的金屬構(gòu)成的鋁基板相比，由作為硬質(zhì)材料的玻璃構(gòu)成的玻璃基板在基板表面的平坦性、基板強(qiáng)度和剛性方面優(yōu)異。磁盤所用的玻璃基板一般通過對(duì)其主表面實(shí)施磨削加工和/或拋光加工等來制造。作為玻璃基板的磨削加工和/或拋光加工，有利用具有行星齒輪機(jī)構(gòu)的雙面拋光裝置來實(shí)施的方法。

如專利文獻(xiàn)1中所述，在行星齒輪機(jī)構(gòu)中，將玻璃基板夾持在粘附有拋光墊（拋光布）的上下平板間，在將混懸有磨粒的拋光液（漿液）供給到拋光墊與玻璃基板之間的同時(shí)，通過使玻璃基板與上下平板相對(duì)移動(dòng)，將玻璃基板的主表面加工成平滑表面。

另外，玻璃基板還具有作為脆性材料的一面。因此，在磁盤用玻璃基板的制造工序中，通過在加熱的化學(xué)強(qiáng)化液中浸漬玻璃基板，將玻璃基板表層的鋰離子、鈉離子分別離子交換為化學(xué)強(qiáng)化液中的鈉離子、鉀離子，由此，在玻璃基板的表層形成壓縮應(yīng)力層來進(jìn)行強(qiáng)化（玻璃強(qiáng)化工序）。

另外，在磁盤用玻璃基板的制造工序中，已成為重要的課題是，在通過磨削加工和/或拋光加工等進(jìn)行平滑化的同時(shí)，玻璃基板表面的極少的污染也要除去，以保持基板表面的清潔。因此已知，在上述各工序之后，為了最終使基板表面清潔，在酸性條件下進(jìn)行洗滌。

然后，在表面通過磨削加工和/或拋光加工等而被平滑化的磁盤用玻璃基板上，形成數(shù)nm水平的薄膜（磁性層），進(jìn)行記錄/再生磁道等的形成。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2009-214219號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題

然而，在磁盤用玻璃基板的制造工序所用的制造裝置中，如專利文獻(xiàn)1中所述，在磨削裝置和拋光裝置中有時(shí)采用不銹鋼制部件。另外，在化學(xué)強(qiáng)化工序中，也有時(shí)采用不銹鋼制材料。即，在進(jìn)行采用不銹鋼制裝置的工序時(shí)，有可能由這些裝置產(chǎn)生源于不銹鋼的金屬系污染物（特別是鐵系物質(zhì)），附著在玻璃基板上。另外，在磨削裝置和拋光裝置所用的磨粒等各工序中所使用的輔助材料中，有時(shí)也含有金屬系污染物質(zhì)。

在給玻璃基板帶來影響的污染中，特別是金屬系微粒附著的污染導(dǎo)致在磁性層成膜后的表面上產(chǎn)生凹凸，成為使制品的記錄/再生等電特性和/或成品率下降的原因。因此，在磁盤用玻璃基板的制造工序中，必須除去這些污染。特別是考慮到當(dāng)隨著記錄密度的提高，磁頭自磁盤的浮起量愈發(fā)減小時(shí)，對(duì)來自裝置材質(zhì)的污染物也必須考慮在內(nèi)。

然而，來自不銹鋼的金屬污染物不易被腐蝕，采用洗滌工序中一般使用的酸性水溶液或堿性水溶液等洗滌液難以除去，要除去這些金屬污染物，必須使用具有強(qiáng)力反應(yīng)性的酸性溶液（例如，氫氟酸）等。

另一方面，在將具有強(qiáng)力反應(yīng)性的酸性溶液用作洗滌液時(shí)，存在的問題是，玻璃基板的表面也受到影響，表面粗糙度變大。因此，為了更進(jìn)一步改善玻璃基板表面的平滑性和潔凈度，要求洗滌處理使用能夠有效除去牢固地附著在玻璃基板上的金屬污染物、且不給玻璃基板帶來影響的洗滌液。