[發明專利]處理基板的方法和設備

有效

• 申請號: 201210365972.1
• 申請日: 2012-09-27
• 公開（公告）號: CN103029436A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發明（設計）人: 樸鐵鎬
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: B41J2/01
• 分類號: B41J2/01;B41J3/407;B41J11/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種基板處理設備，包括：

平臺，在所述平臺上放置基板；

排放單元，所述排放單元排放油墨以在放置在所述平臺上的所述基板上形成線路；

固化單元，所述固化單元固化所述排放的油墨；和

傳送單元，所述傳送單元移動所述平臺或移動所述排放單元及所述固化單元。

2.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中固化單元包括照射部件，所述照射部件發出光線。

3.根據權利要求2所述的基板處理設備，其中所述照射部件提供為多個，并且所述照射部件與所述線路一一對應，以發出光線到所述線路上。

4.根據權利要求2所述的基板處理設備，其中所述照射部件提供為具有與所有所述線路的寬度對應的寬度的狹縫形態，并且發出光線到與所有所述線路的寬度對應的區域。

5.根據權利要求2-4任一項所述的基板處理設備，其中所述照射部件在從垂直向下的方向向其移動方向傾斜的方向上發出光線。

6.根據權利要求2-4任一項所述的基板處理設備，其中所述照射部件發出激光或者紫外線。

7.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中所述排放單元和所述固化單元在所述平臺上方沿所述排放單元和所述固化單元的移動方向排列成直線。

8.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中所述固化單元包括加熱部件，所述加熱部件產生熱量。

9.根據權利要求1所述的基板處理設備，其中所述固化單元包括噴射部件，所述噴射部件用于噴射高溫不熔微?；蚋邷貧怏w。

10.根據權利要求1-4及7-9任一項所述的基板處理設備，其中所述排放單元包括噴嘴，所述噴嘴中的每個排放所述油墨。

11.根據權利要求10所述的基板處理設備，還包括供電設備，所述供電設備施加高壓到所述排放單元，

其中所述噴嘴提供為微小針形態，并使用電流體動力學方法根據所述高壓排放成液柱形狀的油墨。

12.根據權利要求1-4及7-9任一項所述的基板處理設備，還包括旋轉單元，所述旋轉單元旋轉所述平臺。

13.根據權利要求1-4及7-9任一項所述的基板處理設備，其中所述油墨為導電油墨。

14.一種基板處理方法，包括：

將基板放置在平臺上；

通過在所述平臺上方水平移動的排放單元排放油墨，以在放置在所述平臺上的所述基板上形成第一線路；及

通過跟隨所述排放單元的所述固化單元固化所述排放的油墨。

15.根據權利要求14所述的基板處理方法，其中在所述排放的油墨的固化過程中，向所述排放的油墨發出光線以固化所述油墨。

16.根據權利要求15所述的基板處理方法，其中在所述排放的油墨的固化過程中，發出光線使得所述光線的束與所述第一線路一一對應。

17.根據權利要求15所述的基板處理方法，其中在所述排放的油墨的固化過程中，所述光線向與所有所述第一線路的寬度對應的區域發出。

18.根據權利要求15-17任一項所述的基板處理方法，其中在所述排放的油墨的固化過程中，在從垂直向下的方向向其移動方向傾斜的方向上發出光線。

19.根據權利要求14-17任一項所述的基板處理方法，還包括對所述排放單元施加高壓，

其中在所述第一線路的形成過程中，包括在所述排放單元中且提供為微小針形態的噴嘴通過使用電流體動力學方法根據所述高壓噴射成液柱形狀的所述油墨。

20.根據權利要求14-17任一項所述的基板處理方法，還包括：

旋轉所述平臺大約90度；

通過在所述平臺上方水平移動的所述排放單元排放所述油墨，以形成垂直于在所述基板上形成的所述第一線路的第二線路；及

通過跟隨所述排放單元的所述固化單元固化所述排放的油墨的第二線路。