[發(fā)明專利]一種在液晶顯示器基板間制作光阻間隔物的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210364549.X | 申請日: | 2012-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN103226265A | 公開(公告)日: | 2013-07-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡君文;李林;洪勝寶;梅新東;李建華 | 申請(專利權(quán))人: | 信利半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1339 | 分類號: | G02F1/1339;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 王寶筠 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 液晶顯示器 基板間 制作 間隔 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種在液晶顯示器基板間制作光阻間隔物的方法。
背景技術(shù)
液晶顯示器的主要結(jié)構(gòu)是由上下兩片玻璃基板壓合而成,兩片玻璃基板之間灌有液晶,這樣通過玻璃基板間的電場控制液晶翻轉(zhuǎn),加上背光后即可達(dá)到顯示圖像的目的。若要通過輸入信號產(chǎn)生的電場顯示正確的圖像,就需要保證兩片玻璃基板間有均勻?qū)挾鹊拈g隙。
目前,通常采用一種制作光阻間隔物(Photo?Spacer,PS)的工藝來提高玻璃基板間間隙寬度的均勻性。該方法選取一塊玻璃基板通過涂膠,曝光,顯影等工藝制作出一個個的PS點,作為兩塊基板間的支撐點,從而提高玻璃基板間間隙寬度的均勻性,進而提高液晶盒盒厚的均勻性。該方法能夠精確的選擇放置PS點的位置,且PS點的密度和高度都有很高的均勻性。
但是,形成電路結(jié)構(gòu)后的基板的表面是凸凹不平的,而傳統(tǒng)的PS制作方法制作出的各個PS點的高度卻是完全一致的,這就導(dǎo)致,貼合后基板間間隙的寬度仍然不夠均勻,從而,使液晶盒盒厚的均勻性達(dá)不到較高水平。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供一種在液晶顯示器基板間制作光阻間隔物的方法,以進一步提高液晶顯示器基板間間隙的寬度均勻性,從而提高液晶盒盒厚均勻性。
一種在液晶顯示器基板間制作光阻間隔物的方法,包括:
在液晶顯示器的一個基板的表面涂布負(fù)向光阻材料;通過掩模板對所述負(fù)向光阻材料進行曝光,所述掩模板上開設(shè)有至少兩種直徑的圓孔;經(jīng)過顯影步驟,形成具有至少兩種高度的光阻間隔物。
本發(fā)明實施例采用在掩模板上開設(shè)有至少兩種直徑的圓孔,制作出具有至少兩種高度的光阻間隔物的技術(shù)方案,使得制作出的光阻間隔物的高度不再完全一致,而是可以與凸凹不平的基板表面相配合,從而可以進一步提高液晶顯示器基板間間隙的寬度均勻性,進而提高液晶盒盒厚均勻性。
附圖說明
圖1是本發(fā)明實施例提供的在液晶顯示器基板間制作光阻間隔物的方法的流程圖;
圖2是本發(fā)明實施例中采用的掩模板的示意圖;
圖3是本發(fā)明實施例中曝光操作的示意圖;
圖4是本發(fā)明實施例中制成的光阻間隔物的示意圖。
具體實施方式
實施例一、
請參考圖1,本發(fā)明實施例提供一種在液晶顯示器基板間制作光阻間隔物的方法,包括:
101、在液晶顯示器的一個基板的表面涂布負(fù)向光阻材料。
102、通過掩模板對所述負(fù)向光阻材料進行曝光,所述掩模板上開設(shè)有至少兩種直徑的圓孔。
103、經(jīng)過顯影步驟,形成具有至少兩種高度的光阻間隔物。
傳統(tǒng)光阻間隔物(Photo?Spacer,PS)的制作包括涂膠,曝光,顯影等步驟,經(jīng)這些步驟可以制作出高度一致的PS。
本發(fā)明實施例技術(shù)方案則是利用光衍射效應(yīng)來制作高度不一致的光阻間隔物。光的衍射是指光繞過障礙物偏離直線傳播路徑的現(xiàn)象。衍射效應(yīng)使得障礙物后空間的光強分布既區(qū)別于幾何光學(xué)給出的光強分布,又區(qū)別于光波自由傳播時的光強分布,衍射光強有了一種重新分布。光的這種衍射效應(yīng)使得一切幾何影界失去了明銳的邊緣,本設(shè)計即在確定曝光條件的前提下,通過孔徑的大小差異控制衍射效應(yīng)的強弱,進而控制所制作產(chǎn)品的幾何尺寸。
本發(fā)明實施例中,曝光步驟利用掩模板進行。掩模板210的結(jié)構(gòu)如圖2所示,其上開設(shè)有直徑不同的圓孔220。本實施例中,以開設(shè)兩種直徑的圓孔220為例。曝光過程如圖3所示,光線通過掩模板210上開設(shè)的圓孔220照射到已經(jīng)涂布了負(fù)向光阻材料230的基板240上。所述基板240可以是玻璃基板,所述負(fù)向光阻材料230在曝光時受光照部分的分子結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,在后續(xù)顯影工藝中不與顯影液發(fā)生反應(yīng)。
光線通過掩模板210上開設(shè)的圓孔220時會產(chǎn)生衍射效應(yīng),圓孔半徑越小,衍射效應(yīng)越強。受衍射效應(yīng)的作用,圓孔220邊緣的光強重新分布,則經(jīng)顯影步驟后,非圓孔部位對應(yīng)的負(fù)向光阻材料溶解脫落,圓孔220對應(yīng)位置的負(fù)向光阻材料230則形成為光阻間隔物250,該光阻間隔物250呈上小下大的錐臺形,且錐臺的邊緣是圓滑的,沒有尖銳的棱角。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





