[發明專利]一種在液晶顯示器基板間制作光阻間隔物的方法無效
| 申請號： | 201210364549.X | 申請日： | 2012-09-26 |
| 公開（公告）號： | CN103226265A | 公開（公告）日： | 2013-07-31 |
| 發明（設計）人： | 胡君文;李林;洪勝寶;梅新東;李建華 | 申請（專利權）人： | 信利半導體有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1339 | 分類號： | G02F1/1339;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 王寶筠 |
| 地址： | 516600 廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 液晶顯示器 基板間 制作 間隔 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種在液晶顯示器基板間制作光阻間隔物的方法，其特征在于，包括：
在液晶顯示器的一個基板的表面涂布負向光阻材料；
通過掩模板對所述負向光阻材料進行曝光，所述掩模板上開設有至少兩種直徑的圓孔；
經過顯影步驟，形成具有至少兩種高度的光阻間隔物。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的經過顯影步驟，形成具有至少兩種高度的光阻間隔物包括：
通過較大直徑的圓孔曝光的區域經顯影后形成第一光阻間隔物，通過較小直徑的圓孔曝光的區域經顯影后形成第二光阻間隔物，所述第一光阻間隔物的高度大于第二光阻間隔物的高度。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于：
所述第一光阻間隔物的高度與涂布的負向光阻材料的原始高度相同，所述第二光阻間隔物的高度低于涂布的負向光阻材料的原始高度。
4.根據權利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，所述的通過掩模板對所述負向光阻材料進行曝光之前還包括：
根據液晶顯示器的基板上形成的電路結構設計光阻間隔物的位置分布和高度分布，進而根據該位置分布和高度分布制作具有相應圓孔的掩模板。
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