[發明專利]透明導電膜卷繞鍍膜裝置及其使用方法

有效

• 申請號: 201210363929.1
• 申請日: 2012-09-26
• 公開（公告）號: CN102877038A
• 公開（公告）日: 2013-01-16
• 發明（設計）人: 江成軍;夏國濤;李章國;鐘欣;柳錫運
• 申請（專利權）人: 深圳南玻顯示器件科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 劉誠;鄧云鵬

技術領域

本發明涉及一種卷繞鍍膜設備，特別是涉及一種用于柔性透明導電膜的卷繞鍍膜裝置及其使用方法。

背景技術

真空卷繞鍍膜技術是在真空室內通過熱蒸發或者磁控濺射等方法在柔性基材表面制備一層或者多層具有一定功能的薄膜的技術。真空卷繞鍍膜設備主要技術特征是：其一，被鍍基材為柔性基材，即具有可卷繞性；其二，鍍膜過程具有連續性，即在一個工作周期內鍍膜是連續進行的；其三，鍍膜過程在一定的真空環境中進行。所以真空卷繞鍍膜設備的基本結構必須有卷繞轉動，有基材的放卷和收卷。在放卷和收卷過程中基材被鍍上薄膜。鍍膜的結構就是真空卷繞鍍膜設備的工作部。它位于基材的收放卷之間。鍍膜部分的工作原理可以是電阻蒸發、感應蒸發、電子束蒸發、磁控濺射或者是其它真空鍍膜方法中的任意一種。

傳統的柔性透明導電膜生產的控制技術僅僅是對電源參數的控制，對于過程的可控性不高。

發明內容

基于此，有必要提供一種生產控制程度較高的透明導電膜卷繞鍍膜裝置及其使用方法。

一種透明導電膜卷繞鍍膜裝置，包括依次相連的放卷室、鍍膜室及收卷室以及真空獲得系統，所述放卷室將柔性基材運送到所述鍍膜室內鍍膜，形成透明導電膜，所述收卷室用于接收所述透明導電膜，所述真空獲得系統安裝于所述鍍膜室，用于獲得鍍膜所需的真空狀態，所述透明導電膜卷繞鍍膜裝置還包括控制系統，所述控制系統包括：

氣體分析儀，設于所述鍍膜室內，用于分析所述鍍膜室內的氣體成分和含量，其中的氣體有Ar，O₂，H₂O，H₂，N₂，CO，CO₂等；

真空計，設于所述鍍膜室內，用于測量所述鍍膜室內的氣壓，鍍膜工作氣壓一般在10^-4～10^-3Torr；

氣體流量計，設于所述鍍膜室的進氣管道上，用于控制所述鍍膜室的進氣量；

張力控制系統，設于放卷室、鍍膜室及收卷室內，用于控制柔性基材的平穩運行；及

計算機，與所述在線氣體分析儀、真空計及氣體流量計相連。

在其中一個實施例中，所述控制系統還包括設于所述鍍膜室內并與所述計算機相連的電阻儀，用于檢測透明導電膜的電阻。

在其中一個實施例中，所述控制系統還包括設于所述鍍膜室內并與所述計算機相連的在線透過率測試儀，用于實時檢測透明導電膜的透過率。

一種上述的透明導電膜卷繞鍍膜裝置的使用方法，包括如下步驟：

基材從所述放卷室進入所述鍍膜室進行鍍膜；

根據所述在線氣體分析儀和所述真空計的測量結果確定所述鍍膜室內雜質氣體（如H₂O，N₂，NO_x，CO，CO₂，CH₄等氣體）的含量，正常情況下H₂O的氣體分壓在1~2.5×10^-6Torr，N₂的氣體分壓在5~9×10^-8Torr；

當所述計算機判斷所述雜質氣體的含量（通過氣體分壓來表征）增加時，所述氣體流量計減少所述鍍膜室工藝氣體的進氣量，當所述計算機判斷所述雜質氣體的含量減少時，所述氣體流量計增加所述鍍膜室工藝氣體的進氣量，及

將鍍膜后形成的透明導電膜送入所述收卷室。

上述透明導電膜卷繞鍍膜裝置通過在線監控鍍膜室的工作參數，實時調整鍍膜室的進氣量，因此生產控制程度較高，進而提高了生產效率。

附圖說明

圖1為一實施方式的透明導電膜卷繞鍍膜裝置的結構示意圖。

具體實施方式

為使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發明的具體實施方式做詳細的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細節以便于充分理解本發明。但是本發明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施，本領域技術人員可以在不違背本發明內涵的情況下做類似改進，因此本發明不受下面公開的具體實施的限制。

請參閱圖1，一實施方式的透明導電膜卷繞鍍膜裝置100包括依次相連的放卷室10、鍍膜室20，收卷室30以及真空獲得系統（圖未示，安裝于所述鍍膜室20，用于獲得鍍膜所需的真空狀態）。