[發明專利]具有工具軌跡顯示功能的數值控制裝置有效
| 申請號: | 201210362266.1 | 申請日: | 2012-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN103019154A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發明(設計)人: | 巖下平輔;小川肇 | 申請(專利權)人: | 發那科株式會社 |
| 主分類號: | G05B19/18 | 分類號: | G05B19/18 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;郭鳳麟 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 工具 軌跡 顯示 功能 數值 控制 裝置 | ||
1.一種數值控制裝置(14),其特征在于包括:
數值控制部(16),對機床(10)具有的至少一個驅動軸(12)進行控制;
工具坐標計算部(20),根據上述驅動軸(12)的位置反饋數據以及上述機床(10)的機械結構的信息,計算工具的代表點的第一反饋軌跡;
工具軌跡存儲部(22),存儲上述第一反饋軌跡;和
顯示部(24),顯示上述第一反饋軌跡,其中
上述顯示部(24)在該顯示部(24)上顯示的第一反饋軌跡上,重疊顯示至少一個以上的存儲在上述工具軌跡存儲部(22)中的過去的第二反饋軌跡。
2.根據權利要求1所述的數值控制裝置,其特征在于:
上述顯示部(24)顯示根據用于控制上述驅動軸(12)的位置指令以及上述機床(10)的機械結構的信息算出的工具的代表點的指令軌跡,進而在上述指令軌跡上重疊顯示至少一個以上的上述第一反饋軌跡以及第二反饋軌跡。
3.根據權利要求1或者2所述的數值控制裝置,其特征在于:
上述指令軌跡或者上述第一反饋軌跡以及第二反饋軌跡是把三維軌跡投影到二維平面的軌跡。
4.根據權利要求1~3的任意一個所述的數值控制裝置,其特征在于:
上述顯示部(24)把上述第一反饋軌跡或者第二反饋軌跡相對于上述指令軌跡的誤差或者上述第一反饋軌跡與第二反饋軌跡之間的誤差只在該誤差方向上進行放大顯示。
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