[發(fā)明專利]玻璃基板搬運方法和玻璃基板層疊體形成方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210356975.9 | 申請日： | 2012-09-21 |
| 公開（公告）號： | CN103010742A | 公開（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 山先達也;赤堀正憲 | 申請（專利權(quán)）人： | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號： | B65G47/90 | 分類號： | B65G47/90;B65G49/06;B65G57/00;B65G61/00;B24B7/24;B24B7/16 |
| 代理公司： | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 高培培;車文 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 玻璃 搬運 方法 層疊 體形 成方 | ||
1.一種玻璃基板搬運方法，隔著墊片通過保持件保持玻璃基板，并同時搬運墊片和玻璃基板。
2.如權(quán)利要求1所述的玻璃基板搬運方法，其特征在于，
所述保持件為吸附工具。
3.如權(quán)利要求1或2所述的玻璃基板搬運方法，其特征在于，
通過配置于所述玻璃基板和所述墊片之間的液體或靜電吸附所述玻璃基板和所述墊片。
4.如權(quán)利要求1～3中任一項所述的玻璃基板搬運方法，其特征在于，
與所述玻璃基板相對的所述墊片表面的表面粗糙度Ra為2.0μm以下，所述墊片的厚度為0.5mm以下。
5.如權(quán)利要求1～4中任一項所述的玻璃基板搬運方法，其特征在于，
與所述墊片相對的所述玻璃基板的主平面的表面粗糙度Ra為1.5μm以下。
6.如權(quán)利要求1～5中任一項所述的玻璃基板搬運方法，其中，
在設定所述玻璃基板的質(zhì)量和所述墊片的質(zhì)量的合計值為m（kg）、重力加速度為g（m/s2）時，
所述保持件的保持力F（N）滿足F＞mg。
7.如權(quán)利要求1～6中任一項所述的玻璃基板搬運方法，其特征在于，
在同時搬運墊片和玻璃基板之前具有對所述玻璃基板和所述墊片進行定位的定位工序。
8.一種玻璃基板層疊體形成方法，其特征在于，
使用權(quán)利要求1～7中任一項所述的玻璃基板搬運方法，同時搬運所述墊片和所述玻璃基板，形成玻璃基板層疊體。
9.一種玻璃基板搬運裝置，使用權(quán)利要求1～7中任一項所述的玻璃基板搬運方法，同時搬運所述墊片和所述玻璃基板，其特征在于，具有：
載置所述玻璃基板的玻璃基板載置部；
載置所述墊片的墊片載置部；
在所述玻璃基板的表面配置所述墊片的玻璃基板－墊片對形成部；
將所述玻璃基板從所述玻璃基板載置部搬運到所述玻璃基板－墊片對形成部的玻璃基板搬運機構(gòu)；
將所述墊片從所述墊片載置部搬運到所述玻璃基板－墊片對形成部的墊片搬運機構(gòu)；及
搬運在所述玻璃基板－墊片對形成部形成的玻璃基板－墊片對的玻璃基板－墊片對搬運機構(gòu)。
10.一種玻璃基板層疊體形成系統(tǒng)，通過對使用權(quán)利要求9所述的玻璃基板搬運裝置搬運的所述玻璃基板－墊片對進行層疊而形成玻璃基板層疊體，其特征在于，
具有玻璃基板層疊體形成部。
11.一種磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，具有：
研磨玻璃基板的端面的端面研磨工序；
研磨玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；及
清洗玻璃基板的清洗工序；其特征在于，
具有使用了權(quán)利要求1～7中任一項所述的玻璃基板搬運方法的玻璃基板搬運工序。
12.一種磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，具有：
研磨玻璃基板的端面的端面研磨工序；
研磨玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；及
清洗玻璃基板的清洗工序；其特征在于，
具有使用了權(quán)利要求8所述的玻璃基板層疊體形成方法的玻璃基板層疊體形成工序。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于旭硝子株式會社，未經(jīng)旭硝子株式會社許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210356975.9/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
