[發(fā)明專利]具有寬帶反射特性的干涉式光學(xué)調(diào)制器無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210350792.6 | 申請日: | 2008-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN102854619A | 公開(公告)日: | 2013-01-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐剛 | 申請(專利權(quán))人: | 高通MEMS科技公司 |
| 主分類號: | G02B26/00 | 分類號: | G02B26/00;G02B26/08;G02B5/08 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 劉國偉 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 寬帶 反射 特性 干涉 光學(xué) 調(diào)制器 | ||
1.一種光學(xué)裝置,其包括:
光學(xué)堆疊,其包括:
第一層,其具有第一折射率,
在所述第一層上的第二層,所述第二層具有小于所述第一折射率的第二折射率;以及
在所述第二層上的第三層,所述第三層具有大于所述第二折射率的第三折射率;
第四層,其為至少部分光學(xué)吸收性的,
其中所述光學(xué)堆疊與所述第四層在所述光學(xué)裝置處于第一狀態(tài)下時彼此相距第一距離,且在所述光學(xué)裝置處于第二狀態(tài)下時彼此相距第二距離,所述第一距離不同于所述第二距離,所述光學(xué)裝置在所述第一狀態(tài)下反射大體上白色的光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第一層及所述第三層中的至少一者包括兩個或兩個以上子層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)裝置,其中所述子層中的一者具有比所述第二折射率大的第四折射率。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)裝置,其中所述子層中的一者為導(dǎo)電的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述光學(xué)堆疊與所述至少部分光學(xué)吸收性的層之間的區(qū)域具有比所述第三折射率小的第五折射率。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第一層及所述第三層中的至少一者為導(dǎo)電的。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第一折射率及所述第三折射率均大于約1.7。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第二折射率小于約1.5。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第一層或第三層包括氧化銦錫、氮化硅、氧化鈦、氧化鋯、氧化釔、氧化銻或硒化鋅。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第二層包括冰晶石、氟化鎂或氟化的SiOx。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第四層包括鉬、鎳、硅、TiNxWy、氮化鈦、鍺、碳、鐵、鉻、鎢、SixGe1-x或氮化錫。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第一層具有在約700埃與約1350埃之間的范圍中的厚度。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第二層具有在約900埃與約1400埃之間的范圍中的厚度。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第三層具有在約100埃與約550埃之間的范圍中的厚度。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第四層具有在約30埃與約3000埃之間的范圍中的厚度。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第一距離處于約與約之間或約與之間的范圍中。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第二距離大致為零。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述光學(xué)裝置在所述第一狀態(tài)下具有第一反射率,且所述光學(xué)裝置在所述第二狀態(tài)下具有第二反射率,所述第一反射率與所述第二反射率的比率大于約十。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的光學(xué)裝置,其中所述第一反射率與所述第二反射率的所述比率大于約一百。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述光學(xué)裝置在所述第一狀態(tài)下具有大體上對應(yīng)于標(biāo)準(zhǔn)白色點D65的可見光的反射光譜功率分布。
21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述第四層安裝于機械支撐層上。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的光學(xué)裝置,其中所述機械支撐層包括鎳。
23.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其中所述光學(xué)堆疊安裝于至少部分光學(xué)透射襯底上。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的光學(xué)裝置,其中所述至少部分光學(xué)透射襯底包括玻璃。
25.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置,其進一步包括:
顯示器;
處理器,其經(jīng)配置以與所述顯示器通信,所述處理器經(jīng)配置以處理圖像數(shù)據(jù);以及
存儲器裝置,其經(jīng)配置以與所述處理器通信。
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