[發明專利]一種監控光刻設備光路穩定性的裝置有效

申請號：	201210343622.5	申請日：	2012-09-17
公開（公告）號：	CN102866593A	公開（公告）日：	2013-01-09
發明（設計）人：	朱駿;張旭昇	申請（專利權）人：	上海華力微電子有限公司
主分類號：	G03F7/20	分類號：	G03F7/20;G01M11/02
代理公司：	上海申新律師事務所 31272	代理人：	竺路玲
地址：	201210 上海市浦***	國省代碼：	上海;31
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種監控光刻設備穩定性裝置
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【說明書】：

技術領域

本發明涉及半導體制造領域，尤其涉及一種監控光刻設備光路穩定性的裝置。

背景技術

目前，伴隨集成電路制造工藝的不斷進步，線寬的不斷縮小，半導體器件的面積正變得越來越小，半導體的布局已經從普通的單一功能分離器件，演變成整合高密度多功能的集成電路；由最初的集成電路（IC）隨后到大規模集成電路（LSI）、超大規模集成電路（VLSI），直至今天的特大規模集成電路（ULSI），器件的面積進一步縮小，功能更為全面強大。考慮到工藝研發的復雜性，長期性和高昂的成本等等不利因素的制約，如何在現有技術水平的基礎上進一步提高器件的集成密度，縮小芯片的面積，在同一枚硅片上盡可能多的得到有效的芯片數，從而提高整體利益，將越來越受到芯片設計者，制造商的重視。

光刻工藝作為集成電路制造中的重要工藝擔負著關鍵的作用，由于目前的光學分辨率已經是曝光波長的1/2甚至1/3，已經非常接近光學極限，因此對光刻機、光學鏡頭乃至光路的要求就更加的苛刻。尤其在光學光路方面，若由于振動、廠房地基下沉等不可見因素導致的發生光線偏移，那即便光刻設備造價昂貴，但所制造的芯片仍然無法滿足工藝的需求。

圖1是本發明背景技術中光刻設備光路結構示意圖；如圖1所示，在凈化間輔助設備擺放層中的激光器1發出光線，照明光路2通過光路鏡頭3至凈化間工藝層中的投影管路鏡頭31，投影光路8依次經掩膜板4、光路鏡頭部分5投射至光刻機硅片工件臺6上；其中，光刻機硅片工件臺6設置在光刻機避震臺7上。

圖2是本發明背景技術中光刻設備發生光線偏移時的光路結構示意圖；如圖2所示，當光路鏡頭3由于由于振動、廠房地基下沉等不可見因素發生傾斜時，會導致照明光路2發生光線偏移，進而使得投影光路8相應的發生偏移，使得投影在光刻機硅片工件臺6的位置發生偏移，從而使產品無法滿足工藝需求，降低產品的良率。

圖3是本發明背景技術中光刻設備發生光線偏移時的測試數據圖，橫軸為月度時間，縱軸為光路偏移量（單位：微米），偏移量大于小于300微米時為設備安全運行區域，偏移量在300微米至400微米區域為設備運行危險區域，偏移量大于400微米時，設備運行，需要停機調整；如圖3所示，曲線b為橫軸數據，曲線c為縱軸數據，即隨著設備的運行，光路的偏移量越來愈大，最后不能不停機檢測調整。

由于當發生光線偏移時，光學路徑的監控和測試需要非常繁瑣的工序及設備，往往測定一個數據點需要6個小時以上的停機測試時間，這在大生產中無法忍受，而且由于是發生光線偏移后才發現檢測，無法實時的監控，大大增大了生產成本的風險。

發明內容

針對上述存在的問題，本發明揭示了一種監控光刻設備光路穩定性的裝置，主要是通過在光刻設備上設置水平儀，實現對光線偏移的實時監測的裝置。??

本發明的目的是通過下述技術方案實現的：

一種監控光刻設備光路穩定性的裝置，包括有照明光路裝置和投影光路裝置的光刻設備，其中，于所述照明光路裝置和所述投影光路裝置上設置至少一個水平儀。

上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，還包括光刻信息管理系統，所述水平儀與所述光刻信息管理系統聯機。

上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述水平儀為機械式水平儀或電子水平儀。

上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述照明光路裝置包括多個光路鏡頭。

上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，于所述每個光路鏡頭上均設置有水平儀。

上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述投影光路裝置也包括多個光路鏡頭。

上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，于所述每個投影管路中的光路鏡頭上均設置有水平儀。

上述的監控光刻設備光路穩定性的裝置，其中，所述投影光路裝置還包括掩膜板，所述掩膜板上設置有水平儀。