[發(fā)明專利]一種光刻晶圓洗邊和邊膠去除量測穩(wěn)定性的監(jiān)控方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210343464.3
• 申請日: 2012-09-17
• 公開（公告）號: CN102867762A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發(fā)明（設計）人: 朱陸君;倪棋梁;陳宏璘
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 竺路玲

1.一種光刻晶圓洗邊和邊膠去除量測穩(wěn)定性的監(jiān)控方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：選取一裸晶圓；

步驟2：以所述裸晶圓邊緣處為起點，分別從0°、80°、180°和270°四個角度到所述裸晶圓中心位置的0-5000μm距離內，以1000μm為單位在所述裸晶圓上標注刻度線；

步驟3:?以所述裸晶圓上的所述四個角度標注的刻度線上的各3000μm處為參照點，所述參照點分別為第一參照點、第二參照點、第三參照點、第四參照點；?

步驟4：分別計算經檢測后的所述裸晶圓上在所述第一參照點、第二參照點、第三參照點、第四參照點處得到的測量值，所述測量值對應分別為第一測量值、第二測量值、第三測量值、第四測量值；

步驟5：計算所述第一參照點與所述第一測量值、所述第二參照點與所述第二測量值、所述第三參照點與所述第三測量值、所述第四參照點與所述第四測量值的差值。

2.根據(jù)權利要求1所述的光刻晶圓洗邊和邊膠去除量測穩(wěn)定性的監(jiān)控方法，其特征在于，將步驟1中所選的所述裸晶圓作為量測檢測機臺穩(wěn)定性和精確性的標準片。

3.根據(jù)權利要求1所述的光刻晶圓洗邊和邊膠去除量測穩(wěn)定性的監(jiān)控方法，其特征在于，步驟2中所述裸晶圓邊緣處的刻度為0。

4.根據(jù)權利要求1所述的光刻晶圓洗邊和邊膠去除量測穩(wěn)定性的監(jiān)控方法，其特征在于，步驟2中所述裸晶圓上的刻度從邊緣處至中心位置方向遞增。

5.根據(jù)權利要求1所述的光刻晶圓洗邊和邊膠去除量測穩(wěn)定性的監(jiān)控方法，其特征在于，步驟2中在所述裸晶圓邊緣處選擇任意一點，設所述任意一點到所述裸晶圓中心位置的方向為起始度0°，所述80°、180°和270°分別以所述0°為基準測量。

6.根據(jù)權利要求1所述的光刻晶圓洗邊和邊膠去除量測穩(wěn)定性的監(jiān)控方法，其特征在于，步驟4中的檢測機臺為CV300R。

7.根據(jù)權利要求1所述的光刻晶圓洗邊和邊膠去除量測穩(wěn)定性的監(jiān)控方法，其特征在于，步驟5中計算得出的四個差值的絕對值均小于20μm，則檢測機臺的穩(wěn)定性和精確性符合標準。