[發(fā)明專利]一種可提高畫面解析度的立體顯示設備及其制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210335706.4
• 申請日: 2012-09-11
• 公開（公告）號: CN102854678A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發(fā)明（設計）人: 徐源竣;呂思慧;李明賢
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1333
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種可提高畫面解析度的立體顯示設備，其特征在于，所述立體顯示設備包括：

多條柵極線，每一柵極線沿一第一方向延伸；

多條數(shù)據(jù)線，每一數(shù)據(jù)線沿一第二方向延伸，所述數(shù)據(jù)線與所述柵極線位于不同的平面，且所述第二方向與所述第一方向彼此正交；以及

一中間介質層，設置于所述柵極線與所述數(shù)據(jù)線之間，所述中間介質層包括一第一介質部和一第二介質部，所述第一介質部與所述第二介質部分別位于所述柵極線的相對兩側，

其中，所述第一介質部和所述第二介質部之間還具有一容置空間，所述容置空間填充有一低k材料，以降低所述柵極線與所述數(shù)據(jù)線間的寄生電容。

2.根據(jù)權利要求1所述的立體顯示設備，其特征在于，所述低k材料為空氣或有機材料或空氣與有機材料二者的混合物。

3.根據(jù)權利要求2所述的立體顯示設備，其特征在于，所述有機材料的介電常數(shù)為3.3。

4.根據(jù)權利要求1所述的立體顯示設備，其特征在于，所述中間介質層包括層疊的氧化硅層和氮化硅層，所述氮化硅層位于所述氧化硅層的上方，所述氮化硅層與所述氧化硅層的厚度均為3000埃。

5.一種可提高畫面解析度的立體顯示設備的制造方法，其特征在于，該制造方法包括以下步驟：

形成多條柵極線；

形成一中間介質層于所述柵極線的上方；

形成多條數(shù)據(jù)線于所述中間介質層的上方，所述數(shù)據(jù)線與所述柵極線位于不同的平面，且所述數(shù)據(jù)線的延伸方向與所述柵極線的延伸方向彼此正交；

涂布一光刻膠于所述中間介質層的上表面；

蝕刻所述中間介質層，形成一容置空間，以便露出所述數(shù)據(jù)線下方的所述柵極線；以及

填充一低k材料于所述容置空間內，以降低所述柵極線與所述數(shù)據(jù)線間的寄生電容。

6.根據(jù)權利要求5所述的制造方法，其特征在于，在上述蝕刻步驟與填充步驟之間，該制造方法還包括：

移除所述中間介質層的上表面的所述光刻膠。

7.根據(jù)權利要求5所述的制造方法，其特征在于，該制造方法還包括：

在填充有所述低k材料的容置空間之上形成一導電層，所述導電層由氧化銦錫材料制成。

8.根據(jù)權利要求5所述的制造方法，其特征在于，上述涂布步驟還包括：

涂布所述光刻膠于所述數(shù)據(jù)線的上表面，以保護所述數(shù)據(jù)線。

9.根據(jù)權利要求5所述的制造方法，其特征在于，形成所述中間介質層的步驟還包括：

形成氧化硅層于所述柵極線的上方；以及

形成氮化硅層于所述氧化硅層的上方，其中，所述氧化硅層與所述氮化硅層的厚度均為3000埃。

10.根據(jù)權利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述低k材料為空氣或有機材料或空氣與有機材料二者的混合物。