[發(fā)明專利]子字線驅(qū)動(dòng)器和半導(dǎo)體集成電路器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210326063.7 | 申請(qǐng)日: | 2012-09-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103165174B | 公開(公告)日: | 2017-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尹泰植;金東輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 愛思開海力士有限公司 |
| 主分類號(hào): | G11C11/4063 | 分類號(hào): | G11C11/4063 |
| 代理公司: | 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11363 | 代理人: | 石卓瓊,俞波 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 子字線 驅(qū)動(dòng)器 半導(dǎo)體 集成電路 器件 | ||
1.一種半導(dǎo)體集成電路器件,包括:
多個(gè)主字線;以及
多個(gè)子字線,所述多個(gè)子字線被配置成響應(yīng)于所述多個(gè)主字線中的每個(gè)的信號(hào)而被驅(qū)動(dòng),
其中,所述多個(gè)子字線從分別布置在單元陣列區(qū)的兩側(cè)邊緣處的子字線驅(qū)動(dòng)器區(qū)向所述單元陣列區(qū)延伸,
從一個(gè)子字線驅(qū)動(dòng)器區(qū)向所述單元陣列區(qū)延伸的多個(gè)子字線中的選中的一個(gè)子字線和與所述選中的子字線相鄰的另一個(gè)子字線,分別響應(yīng)于不同的主字線的信號(hào)而被驅(qū)動(dòng),并且
所述不同的主字線的信號(hào)具有不同的邏輯電平。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其中,從另一個(gè)子字線驅(qū)動(dòng)器區(qū)向所述單元陣列區(qū)延伸的多個(gè)子字線中的選中的一個(gè)子字線和與所述選中的子字線相鄰的另一個(gè)子字線,分別響應(yīng)于所述不同的主字線的信號(hào)而被驅(qū)動(dòng)。
3.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其中,所述多個(gè)子字線被配置成使得從一個(gè)子字線驅(qū)動(dòng)器區(qū)延伸的子字線和從另一個(gè)子字線驅(qū)動(dòng)器區(qū)延伸的子字線被交替布置。
4.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其中,布置在所述單元陣列區(qū)上的任意子字線和與所述任意子字線相鄰的其它子字線,分別響應(yīng)于所述不同的主字線的信號(hào)而被驅(qū)動(dòng)。
5.如權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其中,所述子字線驅(qū)動(dòng)器包括反相器,所述反相器響應(yīng)于選中的主字線的信號(hào)而被驅(qū)動(dòng)。
6.如權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其中,所述反相器的輸出信號(hào)線成為所述子字線本身,而未與任何元件連接。
7.如權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其中,布置在所述單元陣列區(qū)上的所述多個(gè)子字線,以響應(yīng)于第一主字線的信號(hào)而被驅(qū)動(dòng)的子字線、響應(yīng)于第二主字線的信號(hào)而被驅(qū)動(dòng)的子字線、響應(yīng)于第三主字線的信號(hào)而被驅(qū)動(dòng)的子字線以及響應(yīng)于第四主字線的信號(hào)而被驅(qū)動(dòng)的子字線的順序連續(xù)布置。
8.如權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其中,在從一個(gè)子字線驅(qū)動(dòng)器區(qū)延伸的相鄰的一對(duì)子字線之間還連接了用于防止浮置的保持器晶體管,且在從另一個(gè)子字線驅(qū)動(dòng)器區(qū)延伸的相鄰的一對(duì)子字線之間還連接了用于防止浮置的保持器晶體管。
9.一種半導(dǎo)體集成電路器件的子字線驅(qū)動(dòng)器,包括:
半導(dǎo)體襯底,所述半導(dǎo)體襯底被配置成包括具有PMOS晶體管的N阱和具有NMOS晶體管的P阱;
四個(gè)子字線,所述四個(gè)子字線被配置成平行延伸在所述N阱和P阱之上;
第一至第四子字線選擇線,所述第一至第四子字線選擇線被配置成沿與所述四個(gè)子字線交叉的方向延伸,并形成在所述N阱上;
一對(duì)VSS線,所述一對(duì)VSS線被配置成形成在所述P阱上,且被形成為與所述子字線的延伸方向平行;
第一主字線,所述第一主字線被配置成包括第一部分和第二部分,所述第一部分與所述子字線選擇線中的兩個(gè)子字線選擇線具有兩個(gè)交叉處,所述第二部分與所述一對(duì)VSS線交叉;以及
第二主字線,所述第二主字線被配置成包括第一部分和第二部分,所述第一部分與所述子字線選擇線中的另外兩個(gè)子字線選擇線具有兩個(gè)交叉處,所述第二部分與所述一對(duì)VSS線交叉。
10.如權(quán)利要求9所述的子字線驅(qū)動(dòng)器,其中,所述四個(gè)子字線中的第一和第三子字線與所述第一主字線電連接,且所述四個(gè)子字線中的第二和第四子字線與所述第二主字線電連接。
11.如權(quán)利要求9所述的子字線驅(qū)動(dòng)器,其中,所述四個(gè)子字線以不連續(xù)排序布置。
12.如權(quán)利要求9所述的子字線驅(qū)動(dòng)器,其中,在位于所述N阱和所述P阱的相鄰部分處的所述第一主字線和所述第二主字線中的主字線中,第一和第二部分彼此連接。
13.如權(quán)利要求9所述的子字線驅(qū)動(dòng)器,其中,所述N阱的寬度是所述P阱的寬度的至少兩倍。
14.如權(quán)利要求9所述的子字線驅(qū)動(dòng)器,其中,所述一對(duì)VSS線中的一個(gè)被布置在所述第一和第二子字線之間的空間中,所述一對(duì)VSS線中的另一個(gè)被布置在所述第三和第四子字線之間的空間中。
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