[發明專利]有機EL設備制造裝置

無效

• 申請號: 201210325673.5
• 申請日: 2009-08-17
• 公開（公告）號: CN102938447A
• 公開（公告）日: 2013-02-20
• 發明（設計）人: 若林雅;韮澤信廣;弓場賢治;淺田干夫;落合行雄
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高新技術
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;C23C14/24;C23C14/04
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 鐘晶;於毓楨

1.一種有機EL設備制造裝置，其具有在真空腔內將蒸鍍材料蒸鍍到基板上的蒸發源和將所述基板和蒸鍍位置進行定位的掩模罩，其特征在于，

具有這樣的蒸鍍機構：在所述真空腔內內存有N（N為2以上）張基板，在用所述蒸發源蒸鍍第1張的第1基板的時段中，將第N張的第N基板搬入所述真空腔內，在用所述蒸發源蒸鍍第2張以后的第2基板的時段中，從所述真空腔內搬出所述第1基板；

具有2個將所述基板與掩模罩進行定位的定位部，

并且，具有將在所述定位部的一個中進行了所述基板和掩模罩的定位后的基板移動至蒸鍍位置的移動機構。

2.根據權利要求1所述的有機EL設備制造裝置，其特征在于，

所述2個定位部通過定位基座而成為一體，移動至所述蒸鍍位置。

3.根據權利要求1或2所述的有機EL設備制造裝置，其特征在于，具有2個基板交接部，所述定位部到達該基板交接部的前面來接受基板。