[發(fā)明專利]工件輸送裝置、以及工件處理裝置和工件處理方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210322509.9 | 申請日: | 2012-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN102984931B | 公開(公告)日: | 2017-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 水野亨;進(jìn)藤修;中山均 | 申請(專利權(quán))人: | TDK株式會社 |
| 主分類號: | H05K13/04 | 分類號: | H05K13/04;H05K13/08 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11322 | 代理人: | 楊琦 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 工件 輸送 裝置 以及 處理 方法 | ||
1.一種工件輸送裝置,其中,
具備噴嘴單元和攝像裝置,
所述噴嘴單元具有筒狀部、在所述筒狀部的一端開口的吸附孔、堵塞所述筒狀部的另一端的端面部、以及連通于吸引機(jī)構(gòu)的吸引孔,
所述端面部的至少一部分為透明,
用所述攝像裝置,通過所述端面部和所述吸附孔而能夠?qū)Ρ3钟谒鑫娇咨系墓ぜ谋晃矫孢M(jìn)行攝像。
2.如權(quán)利要求1所述的工件輸送裝置,其中,
所述吸引孔在所述筒狀部的側(cè)面開口。
3.如權(quán)利要求1或2所述的工件輸送裝置,其中,
所述攝像裝置所具有的照明機(jī)構(gòu)為同軸照明。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的工件輸送裝置,其中,
在所述工件的所述被吸附面上設(shè)置有第1基準(zhǔn)標(biāo)記,
具備能夠基于所述攝像裝置的攝像圖像,從所述第1基準(zhǔn)標(biāo)記算出所述工件基準(zhǔn)位置的圖像處理機(jī)構(gòu)。
5.一種工件處理裝置,其中,
具備:
權(quán)利要求4所述的工件輸送裝置;
在至少一個面上設(shè)置有第2基準(zhǔn)標(biāo)記的基板和保持所述基板的基板保持機(jī)構(gòu);
能夠?qū)Πū3钟谒龌灞3謾C(jī)構(gòu)上的基板的所述第2基準(zhǔn)標(biāo)記的圖像進(jìn)行攝像的攝像裝置,
所述圖像處理機(jī)構(gòu)能夠基于所述攝像裝置的攝像圖像,從所述第2基準(zhǔn)標(biāo)記算出所述基板上的所述工件搭載目標(biāo)位置,
控制所述噴嘴單元的相對位置的噴嘴相對位置控制機(jī)構(gòu)在使從所述第1基準(zhǔn)標(biāo)記算出的所述工件基準(zhǔn)位置與所述工件搭載目標(biāo)位置一致的狀態(tài)下將所述工件搭載于所述基板上。
6.如權(quán)利要求5所述的工件處理裝置,其中,
用一個攝像裝置對所述第1和第2基準(zhǔn)標(biāo)記的兩者進(jìn)行攝像。
7.一種工件處理方法,其中,
所述工件處理方法是將設(shè)置了第1基準(zhǔn)標(biāo)記的工件搭載于設(shè)置了第2基準(zhǔn)標(biāo)記的基板上的工件處理方法,
包括:
第1攝像工序,通過攝像裝置對包含第2基準(zhǔn)標(biāo)記的基板的圖像進(jìn)行攝像;
基于所述第1攝像工序中的攝像圖像,從所述第2基準(zhǔn)標(biāo)記算出所述基板上的工件搭載目標(biāo)位置的工序;
相對移動工序,通過噴嘴相對位置控制機(jī)構(gòu),將吸附保持了所述工件的噴嘴單元相對移動到能夠通過攝像裝置對所述工件進(jìn)行攝像的位置;
第2攝像工序,通過所述攝像裝置對包含第1基準(zhǔn)標(biāo)記的所述工件的圖像進(jìn)行攝像;
基于所述第2攝像工序中的攝像圖像,從所述第1基準(zhǔn)標(biāo)記算出所述工件基準(zhǔn)位置的工序;
修正工序,通過所述噴嘴相對位置控制機(jī)構(gòu),修正所述噴嘴單元的相對位置,以使從所述第1基準(zhǔn)標(biāo)記算出的所述工件基準(zhǔn)位置與所述工件搭載目標(biāo)位置一致;
一邊維持所述工件基準(zhǔn)位置與所述工件搭載目標(biāo)位置一致的狀態(tài),一邊將所述工件搭載于所述基板上的工序,
所述噴嘴單元具有筒狀部、在所述筒狀部的一端開口的吸附孔、堵塞所述筒狀部的另一端的端面部、以及連通于吸引機(jī)構(gòu)的吸引孔,
在所述第2攝像工序中,利用所述攝像裝置,通過所述端面部和所述吸附孔對保持于所述吸附孔的所述工件的被吸附面進(jìn)行攝像。
8.如權(quán)利要求7所述的工件處理方法,其中,
在所述相對移動工序中,將所述噴嘴單元從自所述攝像裝置和所述基板之間退避的退避位置相對移動到所述攝像裝置和所述基板之間,
所述修正工序在所述噴嘴單元位于所述基板的工件搭載位置的正上方的狀態(tài)下進(jìn)行。
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