[發明專利]基板處理裝置和基板處理方法

有效

• 申請號: 201210320645.4
• 申請日: 2012-08-31
• 公開（公告）號: CN102974500A
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發明（設計）人: 中島丈博;井上慎;原圭孝;葉瀬川泉;緒方久仁惠;森拓也
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: B05C5/00
• 分類號: B05C5/00;B05C11/10;H01L21/00
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種基板處理裝置，其對從作為搬入至載體塊的基板輸送容器的載體送出的基板在處理塊中進行液體處理，在該液體處理之后，接著在模塊中進行后處理，將結束包括所述液體處理和后處理的一系列處理的基板交接給載體，該基板處理裝置的特征在于，包括：

液體處理部，其包括：液體處理模塊，其設置于所述處理塊，通過將保持基板水平的基板保護部的周圍用杯體包圍而形成；和按照與基板的批次對應的處理液的每個種類準備的多個噴嘴；

輸送機構，其用于在所述處理塊內進行基板的輸送；

監視部，其監視所述噴嘴的處理液的噴出是否存在問題；和

控制部，其輸出控制信號，使得對于使用由該監視部判斷為存在問題的噴嘴的基板，禁止其在該液體處理部中的液體處理，對于使用該噴嘴以外的噴嘴的基板，使其在該液體處理部中進行液體處理。

2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述液體處理部排列有多個所述液體處理模塊，從外部依次搬入基板，

所述噴嘴單元對于多個液體處理模塊共用，在多個液體處理模塊的上方區域之間移動。

3.如權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述監視部包括：

檢查部，其對在所述液體處理部中進行液體處理后的基板進行檢查；

存儲部，其存儲包含各個所述多個液體處理模塊的基板的輸送路徑的信息；和

判斷部，其使用所述檢查部中的基板的檢查結果和基板的輸送路徑的信息，對于所述多個液體處理模塊的全部，在液體處理模塊中處理后的基板為不良品時，判斷為在該基板的處理中使用的噴嘴的噴出狀態存在問題。

4.如權利要求1～3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述控制部輸出控制信號，使得已從載體送出、使用被判斷為存在問題的噴嘴的基板，通過在所述液體處理后進行后處理的模塊，而不進行該后處理。

5.如權利要求1～3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述控制部輸出控制信號，使得對于處于從載體送出之前的狀態且使用被判斷為存在問題的噴嘴的基板，禁止其從載體送出。

6.如權利要求1～3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

設置有多個所述液體處理部，

所述控制部控制輸送機構，使得在一個液體處理部中判斷為在噴嘴中存在問題時，使用該噴嘴的基板在其它的液體處理部進行液體處理。

7.一種基板處理方法，其對從作為搬入至載體塊的基板輸送容器的載體送出的基板在處理塊中進行液體處理，在該液體處理之后，接著在模塊中進行后處理，將結束包括所述液體處理和后處理的一系列處理的基板交接給載體，該基板處理方法的特征在于：

使用液體處理部，該液體處理部包括：液體處理模塊，其設置于所述處理塊，通過將保持基板水平的基板保護部的周圍用杯體包圍而形成；和按照與基板的批次對應的處理液的每個種類準備的多個噴嘴，

該基板處理方法包括：

利用輸送機構向所述液體處理模塊搬入基板的工序；

從噴出與所述基板對應的種類的處理液的噴嘴向基板噴出處理液進行液體處理的工序；

監視所述噴嘴的處理液的噴出是否存在問題的工序；和

控制所述輸送機構，使得對于使用通過該監視工序判斷為存在問題的噴嘴的基板，禁止其在該液體處理部中的液體處理，對于使用該噴嘴以外的噴嘴的基板，使其在該液體處理部中進行液體處理的工序。

8.如權利要求7所述的基板處理方法，其特征在于：

所述液體處理部排列有多個所述液體處理模塊，由外部依次搬入基板，

所述噴嘴單元對于多個液體處理模塊共用，在多個液體處理模塊的上方區域之間移動。

9.如權利要求8所述的基板處理方法，其特征在于：

所述監視工序包括：

對在所述液體處理部中進行液體處理后的基板進行檢查的工序；

存儲包含各個所述多個液體處理模塊的基板的輸送路徑的信息的工序；和

使用所述檢查部中的基板的檢查結果和基板的輸送路徑的信息，對于所述多個液體處理模塊的全部，在液體處理模塊中處理后的基板為不合格時，判斷為在該基板的處理中使用的噴嘴的噴出狀態存在問題的工序。