[發明專利]一種提高化學溶液法制備CeO2薄膜臨界厚度的方法

無效

• 申請號: 201210318924.7
• 申請日: 2012-09-03
• 公開（公告）號: CN102864444A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發明（設計）人: 雷鳴;黃藝丹;趙勇;蒲明華;武偉;王文濤;張紅;張勇
• 申請（專利權）人: 西南交通大學
• 主分類號: C23C20/08
• 分類號: C23C20/08;H01B13/00
• 代理公司: 成都中亞專利代理有限公司 51126
• 代理人: 王崗

1.一種提高化學溶液法制備CeO₂薄膜臨界厚度的方法，其特征依次由以下步驟構成：

a、硝酸鹽的制備：按稀土與鈰離子比x：1－x，0.01≤x≤0.5配制稀土硝酸鹽與硝酸亞鈰混合物；

b、膠體制備：將配制的稀土硝酸鹽與硝酸亞鈰溶解在高分子有機溶劑中；?

c、膠體涂敷與干燥：將b步中膠體均勻涂覆于織構基底上，后干燥；

d、?分解成相：將干燥樣品放入通H₂/Ar還原氣氛的燒結爐中,經過350^?oC－550^?oC分解，后升溫至1000^oC－1200^oC成相，隨爐冷卻。

2.根據權利要求1所述的一種提高化學溶液法制備CeO₂薄膜臨界厚度的方法，其特征在于：所述a步中，稀土為釔?(Y)、鑭(La)、鐠(Pr)、釹(Nd)、釤(Sm)、銪?(Eu)、釓(Gd)、鋱(Tb)、鏑?(Dy)、鈥(Ho)、鉺(Er)、銩(Tm)、鐿(Yb)、镥(Lu)中的一種。

3.根據權利要求1所述的一種提高化學溶液法制備CeO₂薄膜臨界厚度的方法，其特征在于：所述b步中，高分子有機溶劑為聚甲基丙烯酸或聚丙烯酸與N-N二甲基甲酰胺的聚合物，此溶解過程中引入超聲儀器輔助，使得膠體獲得離子水平上的均勻分布。

4.根據權利要求1所述的一種提高化學溶液法制備CeO₂薄膜臨界厚度的方法，其特征在于：所述c步中，織構基帶可為：NiW合金基帶、NiCr合金基帶、NiAg合金基帶以及其他織構基帶中的一種。

5.根據權利要求1所述的一種提高化學溶液法制備CeO₂薄膜臨界厚度的方法，其特征在于：所述c步中，涂覆方法是：旋涂法、提拉法、狹縫噴涂法等中一種，涂覆時須保證薄膜厚度大于最小濕厚度，薄膜能夠連續、完全覆蓋基底。

6.根據權利要求1所述的一種提高化學溶液法制備CeO₂薄膜臨界厚度的方法，其特征在于：所述d步中，?以1℃/min?-5℃/min速率升至350^?oC－550^?oC?，保證高分子有機物和硝酸鹽充分分解，后升溫至1000^oC－1200^oC成相溫度，保溫1－2小時，隨爐冷卻。