[發明專利]觸控面板的制作方法

無效

• 申請號: 201210316617.5
• 申請日: 2012-08-30
• 公開（公告）號: CN103034357A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發明（設計）人: 李文政;林鐘偉;薛秉中;莊恒隆;賴紀光
• 申請（專利權）人: 達鴻先進科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 上海一平知識產權代理有限公司 31266
• 代理人: 須一平

技術領域

本發明涉及一種面板的制作方法，特別是涉及一種觸控面板的制作方法。

背景技術

參閱圖1及圖2，一般的觸控面板包含一個基板1，及一層導線層2。

該基板1包括一個基材11、多個具有預定圖案且以銦錫氧化物為主要材料并形成于該基材11上的第一透明導電膜12和第二透明導電膜13，及多個以絕緣材料構成并成片狀且對應地形成于所述第一透明導電膜12表面的絕緣膜14。

該導線層2具有多個形成在該絕緣層上的導電膜塊21而成一個觸控圖樣，該每一導電膜塊21對應地形成在每一絕緣膜14上并向外延伸而與最相鄰的第二透明導電膜13電連接，并借該絕緣膜14的隔絕而與所連接的絕緣膜14下的第一透明導電膜12隔絕而電不導通。

當外界自所述第一透明導電膜12及第二透明導電膜13提供電能時，所述絕緣膜14與相連接的第一透明導電膜12及與最鄰近的第二透明導電膜13電連接的導電膜塊21分別形成電容；觸壓該面板時，按壓處的電容值產生變化而轉換成電訊號，并經由該第一透明導電膜12和與該導線層2電連接的第二透明導電膜13傳送供后續計算該觸控面板被觸壓位置的坐標。

由于，該導線層2以導電材料--通常是金屬或合金構成，所以在使用該觸控面板時，會因該導線層2反光，造成該導線層2可視性高而易被察覺，且觸控面板中分布導線層2的區域受反光的影響光量較大，而未分布導線層2的區域相對光量較小，如此光量由于該導線層2而分布不均也造成使用觸控面板時的視覺不適感。因此，目前是在該導線層2上用反射率較低的材料再制作一層成對應該導線層2狀態的遮光層，用以降低該導線層2的反射光量，則該導線層2不易被察覺。

而目前具有遮光層的觸控面板的制作方法是于該基板1上形成一層覆蓋該基板1整個表面的導電準備層；再于該導電準備層上涂布光阻并經過軟烤；接著，于該光阻上設置一層具有觸控圖像的光罩；繼續，經過該光罩對準并曝光而使光阻成預定觸控圖像；再經過顯影而將覆蓋于非成為觸控圖像區域的導電準備層上的光阻移除，再硬烤而硬化成觸控圖像的光阻；繼續，以成觸控圖像的光阻作為遮罩蝕刻移除該導電準備層中不屬于觸控圖像的區域；最后移除成觸控圖像的光阻，而成為具有觸控圖像的導線層2。之后，再于該導線層2與該基板1共同形成的表面設置一層遮光準備層；接著，于該遮光準備層上涂布光阻，使用具有觸控圖像的光罩并重復上述制作導線層2的所有曝光、顯影、硬烤等微影步驟，最后得到狀態與該導線層2同一且連結于該導線層2上的遮光層。

就生產而言，這樣制作的最大問題在于必須精確地使用同一具有觸控圖像的光罩而相對導線層2對準的曝光過程，只要對準不佳，將使得所形成的遮光層無法完全地遮覆該導線層2，而無法有效解決導線層2所產生的反光的問題，此外，為降低反光而重復進行涂布光阻、光罩對準、曝光、顯影、蝕刻等制作步驟以形成遮光層的過程，也增加制作材料與時間成本。

發明內容

本發明的目的在于提供一種具有低反射光量的觸控面板的制作方法。

本發明的觸控面板的制作方法，于一個基板上形成一個成觸控圖像的導線層，包含一個步驟（a）、一個步驟（b）、一個步驟（c）以及一個步驟（d）。

該步驟（a）于該基板上以導電材料構成一層導線準備層。

該步驟（b）在該導線準備層上涂布一層由反射率遠低于構成該導線準備層的導電材料的材料所構成的遮光準備層。

該步驟（c）使用一個具有對應于該觸控圖像的圖案的遮罩，經過曝光、顯影和硬化而使該遮光準備層形成一層成該觸控圖像的遮光層。

該步驟（d）以該遮光層作為該導線準備層的遮罩，蝕刻移除該導線準備層未被該遮光層遮覆的區域，而成為該成觸控圖像的導線層。

較佳地，前述觸控面板的制作方法，其中，該步驟（c）的遮光準備層是負向光阻。

較佳地，前述觸控面板的制作方法，其中，該步驟（b）的導線準備層選自鉬、鋁、鈦、銀、金，及所述的一組合為材料所構成。

較佳地，前述觸控面板的制作方法，其中，該步驟（c）的遮光準備層是黑色矩陣。

較佳地，前述觸控面板的制作方法，其中，該步驟（c）的該遮光層的厚度不小于100am。

較佳地，前述觸控面板的制作方法，其中，該步驟（d）是以濕蝕刻的方式移除該導線準備層未被該遮光層遮覆的區域。