[發(fā)明專利]用于點狀物體的三維定位的顯微鏡設備和顯微鏡方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210309874.6 | 申請日: | 2012-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN102981260A | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 馬庫斯·蒂壩 | 申請(專利權)人: | 萊卡微系統(tǒng)CMS有限責任公司 |
| 主分類號: | G02B21/36 | 分類號: | G02B21/36 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 張大威 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 物體 三維 定位 顯微鏡 設備 方法 | ||
1.一種用于點狀物體(14,16)的三維定位的顯微鏡設備(10),包括:
兩個成像光學部件(12,26,26’),所述兩個成像光學部件(12,26,26’)均以聚焦光分布(40,40’,42,42’)的形式將位于物體空間(18)中的同一個點狀物體(14,16)成像到兩個單獨的像空間;
兩個檢測器單元(28,28’),所述兩個檢測器單元(28,28’)中的每個被分配給所述兩個成像光學部件(12,26,26’)中的一個,并捕獲在所述各自的像空間(34)中設置的檢測面(27,27’)的檢測點中可分析的光斑(54,54’),所述各自的像空間(34)中設置的檢測面(27,27’)代表通過各自的聚焦光分布(40,40’,42,42’)的平面橫截面;以及
評估單元(60),所述評估單元(60)建立所述兩個檢測面(27,27’)的所述檢測點之間的相互成對的對應性,并通過考慮檢測點對應性分析所述兩個光斑(54,54’)來確定在存在于所述物體空間(18)的物體平面中所述點狀物體(14,16)的橫向x-y位置和在垂直于所述物體平面設置的光軸(O1)的方向上的所述點狀物體(14,16)的軸向z位置,
其中,所述兩個成像光學部件(12,26,26’)中的每個包括光學裝置(26,26’),所述光學裝置(26,26’)將所述各自的聚焦光分布(40,40’,42,42’)傾斜朝向檢測軸(36),所述檢測軸(36)設在所述各自的成像光學部件(12,26,26’)中且垂直于所述各自的檢測器單元(28,28’)的所述檢測面(27,27’)設置;
通過所述光學裝置(26,26’)生成所述兩個聚焦光分布(40,40’,42,42’)的傾斜度是相互相反的,使得考慮所述檢測點對應性,所述兩個光斑(54,54’)響應所述點狀物體(14,16)在所述各自的檢測面(27,27’)中的所述z位置的變化在相反的方向上移動,以及
所述評估單元(60)基于所述兩個光斑(54,54’)的相對位置確定所述點狀物體(14,16)的軸向z位置。
2.如權利要求1所述的顯微鏡設備(10),其中,所述評估單元(60)獲得所述各自的光斑(54,54’)的質心位置并基于所獲得的所述兩個光斑(54,54’)的質心位置確定所述橫向x-y位置以及所述軸向z位置。
3.如權利要求2所述的顯微鏡設備(10),其中,所述評估單元(60)基于所述兩個光斑(54,54’)的質心位置的平均值確定所述點狀物體(14,16)的所述橫向x-y位置。
4.如權利要求2或3所述的顯微鏡設備(10),其中,所述評估單元基于所述兩個光斑(54,54’)的質心位置之間的距離確定所述點狀物體(14,16)的所述軸向z位置。
5.如前述權利要求中任一項所述的顯微鏡設備(10),其中,所述兩個檢測器單元(28,28’)的檢測面(27,27’)與物體空間(18)中的相同物體平面光學共軛。
6.如前述權利要求中任一項所述的顯微鏡設備(10),其特征在于,
記錄透鏡(12),所述記錄透鏡(12)由兩個成像光學部件(12,26,26’)共用且將從所述點狀物體(14,16)出現(xiàn)的光轉換為優(yōu)選平行的光線束(20,22);以及
分束器(50),所述分束器(50)將由所述記錄透鏡(12)生成的光線束(20,22)分離為兩個部分光線束(52,52’),所述兩個部分光線束(52,52’)中的每個在各自的檢測面(27,27’)上產生所述兩個光斑(54,54’)中的一個。
7.如權利要求6所述的顯微鏡設備(10),其中,所述成像光學部件(12,26,26’)中的每個包括將所述各自的部分光線束(52,52’)聚焦到所述各自的檢測面(27,27’)上的筒內透鏡(26,26’)。
8.如前述權利要求中任一項所述的顯微鏡設備(10),其中,用于傾斜地使所述各自的聚焦光分布(40,40’,42,42’)轉變角度的所述光學裝置(26,26’)優(yōu)選地提供在所述各自的成像光學部件(12,26,26’)中設有的光學元件(26,26’)的偏離中心的照明,優(yōu)選地是偏離中心的欠照明。
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