[發(fā)明專利]降低串?dāng)_和提高量子效率的圖像傳感器結(jié)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210309512.7 | 申請日: | 2012-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN103426890A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡雙吉;楊敦年;劉人誠;洪豐基;林政賢;王文德 | 申請(專利權(quán))人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孫征 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 降低 提高 量子 效率 圖像傳感器 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,包括:
襯底,包括像素區(qū)域,所述像素區(qū)域結(jié)合光電二極管;
柵格,設(shè)置在所述襯底之上,所述柵格具有限定腔的壁,所述腔與所述像素區(qū)域垂直對準(zhǔn);以及
濾色器,設(shè)置在所述柵格的壁之間的腔中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述柵格是金屬。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述柵格包括低折射率材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述柵格設(shè)置在背照式膜的上方。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述濾色器包括聚合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其中,微透鏡設(shè)置在所述濾色器的頂面上方和與所述濾色器相鄰的所述柵格的壁的頂面上方。
7.一種半導(dǎo)體器件,包括:
襯底,包括像素區(qū)域,每個像素區(qū)域都結(jié)合光電二極管;
柵格,設(shè)置在所述襯底之上,所述柵格具有限定腔的壁,每個腔都與一個像素區(qū)域垂直對準(zhǔn);
濾色器,設(shè)置在每個腔中;以及
微透鏡,設(shè)置在每個濾色器之上。
8.一種制造半導(dǎo)體器件的方法,包括:
在半導(dǎo)體器件的像素區(qū)域中形成光電二極管;
在所述襯底上方沉積覆蓋柵格層;
對所述覆蓋柵格層進(jìn)行圖案化以形成柵格,所述柵格具有限定腔的壁,所述腔垂直設(shè)置在所述像素區(qū)域上方;以及
用濾色器填充所述腔。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,進(jìn)一步包括:在所述濾色器的頂面上方沉積微透鏡。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,進(jìn)一步包括:在與所述濾色器相鄰的所述柵格的壁的頂面上方沉積微透鏡。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





