[發(fā)明專利]一種掩膜板組及應(yīng)用掩膜板組確定對(duì)位精度范圍的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210308956.9
• 申請(qǐng)日: 2012-08-27
• 公開（公告）號(hào): CN102866576A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張玉虎;汪雄;王軍帽;李麗麗
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/42
• 分類號(hào): G03F1/42;G03F9/00
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種掩膜板組，其特征在于，包括：

同規(guī)格的第一掩膜板和至少一個(gè)第二掩膜板；

所述第一掩膜板上設(shè)置有至少一個(gè)第一標(biāo)記，所述第一標(biāo)記包括一正方形及正方形內(nèi)以正方形中心為中心的多個(gè)形狀相同但大小不同的圖案；

所述第二掩膜版上設(shè)置有至少一個(gè)第二標(biāo)記，所述第二標(biāo)記與第一掩膜版上的第一標(biāo)記對(duì)應(yīng)，所述第二標(biāo)記包括一正方形，所述第二標(biāo)記的正方形小于所述第一標(biāo)記的正方形；且在同一坐標(biāo)系中，所述第二標(biāo)記的正方形的中心與所述第一標(biāo)記的正方形的中心的坐標(biāo)相同。

2.如權(quán)利要求1所述的掩膜板組，其特征在于，所述以正方形中心為中心的多個(gè)形狀相同但大小不同的圖案為以正方形中心為圓心的多個(gè)同心圓。

3.如權(quán)利要求2所述的掩膜板組，其特征在于，所述第一掩膜板上設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)第一標(biāo)記時(shí)，所述第二掩膜板上設(shè)置有與所述第一標(biāo)記其中之一位置對(duì)應(yīng)的第二標(biāo)記。

4.如權(quán)利要求3所述掩膜板組，其特征在于，所述第一標(biāo)記的所述多個(gè)同心圓的半徑按照需要對(duì)位的膜層間的結(jié)構(gòu)特性確定，其中半徑最大的同心圓與所述第一標(biāo)記的正方形內(nèi)切。

5.如權(quán)利要求3所述掩膜板組，其特征在于，所述第一標(biāo)記的最小同心圓的半徑等于所述第二標(biāo)記的正方形的外接圓半徑。

6.如權(quán)利要求3所述掩膜板組，其特征在于，所述第二掩膜板有N個(gè)，每個(gè)第二掩膜板上的所述第二標(biāo)記與所述第一掩膜板上的處于不同位置的N個(gè)第一標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)；其中，N≥1。

7.如權(quán)利要求6所述掩膜板組，其特征在于，所述N個(gè)第一標(biāo)記的特征相同。

8.一種利用如權(quán)利要求1所述掩膜板組確定對(duì)位精度范圍的方法，其特征在于，包括如下步驟：

通過曝光將所述第一掩膜板上的所述至少一個(gè)第一標(biāo)記轉(zhuǎn)移至顯示基板上需要對(duì)位的第一層上形成至少一個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記，所述第一對(duì)位標(biāo)記包括一正方形及正方形內(nèi)以正方形中心為中心的多個(gè)形狀相同但大小不同的圖案；

通過曝光將所述至少一個(gè)第二掩膜板的第二標(biāo)記轉(zhuǎn)移到顯示基板上需要對(duì)位的當(dāng)前層形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記，所述第二對(duì)位標(biāo)記包括一正方形；

根據(jù)所述第二對(duì)位標(biāo)記的正方形與所述第一對(duì)位標(biāo)記的正方形和多個(gè)形狀相同但大小不同的圖案的位置確定當(dāng)前光刻的對(duì)位精度范圍。

9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述多個(gè)形狀相同但大小不同的圖案為以正方形中心為圓心的多個(gè)同心圓。

10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，根據(jù)所述第二對(duì)位標(biāo)記的正方形與所述第一對(duì)位標(biāo)記的正方形和多個(gè)同心圓的位置確定光刻對(duì)位精度范圍，包括：

判斷所述第二對(duì)位標(biāo)記的正方形在相對(duì)于對(duì)應(yīng)的所述第一對(duì)位標(biāo)記的正方形中心的偏移方向；確定在所述偏移方向上距離所述對(duì)應(yīng)的所述第一對(duì)位標(biāo)記的正方形中心最遠(yuǎn)的所述第二對(duì)位標(biāo)記的正方形的兩個(gè)邊，根據(jù)兩個(gè)邊處于對(duì)應(yīng)的所述第一對(duì)位標(biāo)記的多個(gè)同心圓的位置，得到當(dāng)前光刻的對(duì)位精度范圍。

11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步還包括：

若所述第二對(duì)位標(biāo)記的正方形超出對(duì)應(yīng)的所述第一對(duì)位標(biāo)記的正方形范圍，則當(dāng)前光刻的對(duì)位精度范圍不符合要求；

若所述第二對(duì)位標(biāo)記的正方形未超出對(duì)應(yīng)的所述第一對(duì)位標(biāo)記的正方形范圍，且得到的對(duì)位精度范圍在規(guī)定的范圍內(nèi)，則當(dāng)前光刻的對(duì)位精度范圍符合要求。